中古 CRYSTAL Clean 960 TM #9301057 を販売中

CRYSTAL Clean 960 TMは、精度と信頼性を重視して設計された画期的なウェーハ加工装置です。高度な結晶構造技術を駆使し、可能な限り高い精度でウェーハを洗浄・研磨します。このシステムは、化学機械研磨（CMP）とエッチングプロセスの両方で動作するように設計されており、あらゆる半導体製造プロセスで使用することができます。ユニットは一連のサブシステムで構成されており、それぞれがお客様の要件に応じてモジュール化されカスタマイズ可能です。機械の中核となる部品には、ウエハハンドリングとアライメントユニット、真空ポンプ、ガス蒸着工具、化学機械研磨機、極低温コンポーネントがあります。これらのコンポーネントは、最適な洗浄および研磨ソリューションを提供するために協力しています。ウェハハンドリングとアライメントユニットは、チャンバー内にウェハを配置し、ウェハがCMPおよびエッチング工程に適切にアライメントされるようにする責任があります。真空ポンプは、洗浄プロセス中のウェーハへの損傷を防ぐために必要なチャンバー内の低圧環境を作成するために責任があります。ガス蒸着アセットは、洗浄プロセス中にウェーハ上の酸素や他のガスの蒸着を制御するために使用されます。化学機械研磨機は、ウェーハ表面の機械研磨を担当しています。これは、特別に設計された研磨パッドでウェーハの表面を研磨することによって行われ、ウェーハの表面に高速で移動します。また、ウエハ表面を冷却してダメージを低減し、研磨工程の品質を向上させる独自の低温冷却素子を採用しています。全体的に、Clean 960 TM装置は高度で高精度なウェーハ処理システムであり、半導体メーカーが時間とコストを節約しながら、高水準の完成品ウェーハを提供できるように設計されています。あらゆる半導体製造プロセスに経済的で信頼性の高いソリューションを提供し、モジュラー型の性質により、お客様はソリューションを正確な要件に合わせてカスタマイズできます。