中古 VEECO Gen II #9073487 を販売中
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ID: 9073487
ウェーハサイズ: 3"
MBE Growth system, 3"
(10) ports for dopants
Process: Growth of arsenides and phosphides
Liquid nitrogen
Phase separator
AlGaAs Laser
Room temperature: 6°C - 10°C
Vacuum:
Growth chamber (GC)
Triode ion pump: 400 l/sec
Buffer chamber (BC)
Triode ion pump: 200 l/sec
(2) TSP Controllers
Loadlock chamber (LC)
(100) CTI Cryotor cryopumps
(2) Vacshorption pumps
Ventury pump
In situ and calibration tools:
RHEED System: 0-10 keV
RHEED Oscillation growth rate calibration system
Cells:
EPI
Valved cracker with valved controller
Cable
Riber three zone
P Valved cracker with valve controller
Power supply
(4) 400g Sumo cells Ga, In, Al
(2) Dopont cells
Dual electronic equipment rack, 19"
(12) Solenson DC power supplies
Riber P valved cracker
2704 Dual channel
Eurotherm controller
Substrate and heated station
(2) DC Power supplies
Substrate heater
Heated station
Other tools:
Ircon optical pyrometer
Growth chamber and beam flux
(2) GP Ion gauge controllers
Buffer and loadlock chamber
RHEED Power supply
RGA Power supply unit
TEK Scope
Riber P cracker power supply
Pyrometer port heated viewport
Substrate manipulator controller
Loadlock chamber
Lamp power and controller
AGILENT / HP / HEWLETT-PACKARD / KEYSIGHT Chart record mounted
RHEED Oscillation recording
Trolley for substrate handling.
VARIAN/VEECO GEN IIは、幅広い用途に使用される薄膜や材料層の製造に使用される分子ビームエピタキシー(MBE)装置です。このシステムは、メインチャンバー、成長チャンバー、噴出セル、ポンプ、コンピュータ制御モニターなど、いくつかのコンポーネントで構成されています。主なチャンバーには、蒸発する材料の源を含む噴出セルが収容されています。主要な部屋は真空密封され、薄膜の成長は成長の部屋の中で起こります。エフュージョンセルは、最大1000°Cの温度に加熱することができ、材料の蒸発を可能にします。チャンバー壁は、MBE成長チャンバー全体で均一な温度を確保するために加熱されます。VEECO GEN IIは3-200nmの範囲の厚さの薄膜そして層を作り出すことができます。ユニットには3つの噴出セルが装備されており、すべてのセルがターボ分子ターボ分子ポンプに接続されています。これにより、機械はメインチャンバーで1。0x10-10 Torrの圧力を達成することができ、薄膜の成長に最適です。また、フィルム成膜時のニュートラルのフラックスを低減するため、外部バッフルを装着することもできます。薄いフィルムやレイヤーを生成する能力に加えて、このツールにはコンピュータ制御のモニターも含まれています。このモニターは、チャンバー内の温度と圧力を制御し、成長プロセスを監視するために使用されます。このアセットには、真空シールやチャンバーの温度を監視するための熱電対など、さまざまな安全機能も含まれています。VARIAN GEN IIは、幅広い用途に適した薄膜や層の製造に最適なモデルです。この装置には、大規模な薄膜増殖に必要な機能が含まれており、システムのコンピューター制御モニタにより、薄膜増殖プロセスを正確に制御できます。このユニットはモジュール式に設計されており、必要に応じて噴出セルの数を増減することができます。堅牢なデザインと高度な機能を備えたGEN IIは、薄膜の研究者や開発者にとって優れた選択肢です。
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