中古 VEECO Gen II #293627901 を販売中

VARIAN/VEECO GEN IIは、材料組成と厚さのサブナノメートル精度を正確に制御し、高純度材料の薄膜の堆積を可能にするために設計された最先端の分子ビームエピタキシー（MBE）システムです。特殊なハードウェアコンポーネント、高度なソフトウェア、細かく調整されたプロセスを組み合わせて使用し、信頼性の高い均一性でレイヤーの成長を保証します。VEECO GEN IIにはいくつかの主要コンポーネントがあります。システムの基盤は真空チャンバーであり、望ましい処理ガスでチャンバーを避難させて埋め戻すために必要な装置と共にあります。チャンバー内には基板ヒーターがあり、堆積する材料の正確な温度制御を提供するために使用されます。電子ビームガンは、真空チャンバー内の材料の脱着、沈着、および/またはパターン化を促進するために電子ビームを提供するために使用されます。電子ビーム銃はまた電子ビームの線量か強度を変えるのに使用することができ層の成長のある特定の特性を制御します。さらに、VARIAN GEN IIにはいくつかの噴出細胞が含まれており、これによって元素ガス源（ゲルマニウムやヒ素など）を堆積室に投与することができる。これらのセルには、材料の微細構造と厚さを正確に制御するために、精密な温度コントローラとスリットコリメーションアセンブリがあります。また、GEN IIには複数のシャッターアセンブリがあり、これを開閉して蒸着室に入り込む材料の量を正確に制御することができます。VARIAN/VEECO GEN IIは、層の成長に「シングルサイクル」アプローチを使用しています。チャンバー、基板、ソースのすべてのサイクルを一緒に使用して、成長するすべての層に完璧な制御と均一性を提供します。チャンバーは、液体窒素によって加圧およびピン留めすることができ、これにより、成長率のスループットと制御が向上します。VEECO GEN IIには完全に自動化された「レシピ」アプローチもあります。つまり、ユーザーは目的のレイヤーパラメータを入力でき、VARIAN GEN IIはそのレイヤーを入金するために必要なすべてのプロセスステップを自動的に処理します。MBE GEN IIは、現代の薄膜蒸着システムの象徴です。また、完全に自動化されたオペレーションにより高いスループットを提供します。