中古 VARIAN / VEECO GEN III #9197483 を販売中

VARIAN/VEECO GEN III分子ビームエピタキシー（MBE）装置は、基板上に薄膜を作成するために使用される高精度の研究ツールです。この技術は、シリコン、ヒ素ガリウム、酸化亜鉛などの様々な基板上の材料の堆積に最も一般的に使用されます。このシステムは、ほんの数ナノメートルの厚さの材料の層を堆積させることができ、他の堆積プロセスよりも均一で精度が高い。これにより、VEECO GEN IIIは、小規模なデバイスやコンポーネントを作成するための理想的なユニットとなります。機械は複数の主要な部品、蒸化器、シャッター、ガスシャッター、水晶モニター、抵抗器のヒーター、方向マスフローのコントローラーおよび電源から成っています。蒸化器は、基板上に堆積する材料を保持し、加熱するために使用されます。シャッターは蒸発器からの流れを制御します。ガスシャッターを使用して、窒素や水素などのガスを材料に含有することを制御します。水晶モニターは、堆積している材料の厚さと均一性についてフィードバックを提供し、抵抗ヒーターは特定の温度で蒸発器を維持するために使用されます。方向マスフローコントローラは材料の圧力と速度を調整するために使用され、電源は工具部品に適切な電圧と電流を供給するために使用されます。VARIAN GEN IIIアセットには、蒸化器の過負荷保護、化学封じ込め用イオンポンプ、粒子封じ込め用フィルターポンプなど、さまざまな安全機能も備えています。このモデルは高度に自動化されており、すべての機器コンポーネントを効率的に制御できるように設計されています。このソフトウェアは、温度プロファイリングや基板の位置決めなど、さまざまな追加コンポーネントを制御して複雑な堆積パターンを作成する機能も備えています。GEN IIIシステムは、半導体やその他の材料の堆積層の精度と精度のために、主要な堆積技術と考えられています。このユニットは、研究開発に広く使用されており、半導体チップや光学部品など多くの製品の作成に使用されています。小規模で複雑な部品を作成する能力は、高度な技術開発において非常に貴重なツールとなっています。