中古 VARIAN / VEECO GEN II #9225866 を販売中

VARIAN/VEECO GEN IIは、高精度で単結晶薄膜の製造に使用される分子ビームエピタキシー（MBE）装置です。VEECO GEN IIには、グループIII元素用とグループV用の2つの噴出セルが装備されています。基板は最大750°Cの温度に加熱され、シャッターはマニピュレータから独立した噴出セルからのフラックスを遮断するために使用されます。また、RHEED （Reflection High Energy Electron Diffraction）ユニットを搭載しており、オンザフラックスレートとジオメトリ最適化が可能です。これにより、成長のモニタリングが向上し、最終製品の品質が向上します。さらに、VARIAN GEN IIには低エネルギーイオン源があり、フィルムの欠陥を減らすことができます。GEN IIはまた、クリーンで超高真空環境を維持しながら効率的なフィルム成長を可能にする4つのチャンバー真空オーブンを備えています。4つのチャンバはロードロックポートを介して真空脱気チャンバに接続されています。このチャンバーはターボ分子ポンプとターボドラッグポンプの組み合わせに接続され、材料の成長に必要な超高真空環境を提供します。VARIAN/VEECO GEN IIは、残留ガス分析装置、マイクロ波電子サイクロトロン共鳴プラズマ源、環状デュアルビーム蒸発器など、幅広い部品も提供しています。全体として、VEECO GEN II MBEマシンは、優れた構造および電気特性を持つ高品質で均質な半導体薄膜の効率的な生産をサポートするための柔軟性と制御のユニークな組み合わせを提供します。クローズドループ制御ツールを維持し、精密かつ一貫した膜成長と半導体材料の均一性を可能にすることで高い評価を得ています。