中古 RIBER Compact 21 #9263066 を販売中
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販売された
ID: 9263066
Epitaxial reactor
R&D System, 10-Port
P/N: 608-405-32 W
HP / HEWLETT-PACKARD Z840 PC
ADVANTECH 610H Industrial computer
MOBILE PANEL Hand held controller
Bakeout control unit
(2) VEECO AT6VSP Plasma sources
Pump:
AGILENT / HP / HEWLETT-PACKARD / KEYSIGHT TwisTorr 304 FS Turbo pump
RIBER Ion pump
BROOKS / CTI CRYOGENICS Cryo-Torr High vacuum pump
BROOKS / CTI CRYOGENICS 8220 Compressor
THERMO SCIENTIFIC NESLAB III Heat exchanger
ADIXEN Vacuum pump with MicroTorr 11 Vacuum
(3) GRANVILLE / PHILLIPS / BROOKS AUTOMATION 350 Ionization gauge controllers
(10) TDK / LAMBDA Uninterruptible Power Supplies (UPS)
GAMMA Vacuum digital pump
Power supply:
VEECO RF 600 Power supply
VEECO RF 601 Power supply
(2) VEECO RF Matching network controllers
RHEED Power supply
LAKESHORE Temperature controller
FRANKLIN ELECTRIC 1201006416 Scroll pump.
RIBER Compact 21 Molecular Beamエピタキシー装置は、非常に制御された環境で薄膜を堆積させるために設計された特殊な装置です。このシステムは、単層または多層の薄膜蒸着を可能にするコンパクトで低コストの機械です。超高真空および高圧処理環境で動作するように設計されています。コンパクト21は、高品質の薄膜を実現するために、いくつかの高度な技術を備えています。これらには、光学研磨ベースプレート、操作が容易なユーザーインターフェース、信頼性の高い薄膜蒸着コントローラ、および使いやすいレーザー干渉計が含まれます。また、最適な蒸着速度と膜均一性を確保するために、気化ユニットと温度制御装置を装備しています。RIBER Compact 21は、1つの蒸着ステップで最大8枚の薄膜を生成することができます。有機薄膜と無機薄膜、合金と酸化物の両方を堆積する能力を持っています。このマシンはまた、ユーザーが望む沈着率が達成されることを確実にすることを可能にする沈着率モニターを備えています。このマシンには、2つの2.4V電源と2つの暖房部品用の24V電源も含まれています。これらは中央コントローラから制御することもでき、ユーザーは目的の温度プロファイルを簡単にプログラムできます。全体として、コンパクト21分子ビームエピタキシーツールは、薄膜蒸着のためのコンパクトで低コストのソリューションを探している研究者やメーカーにとって優れた選択肢です。この資産は、ユーザーに必要な仕様で最高品質と正確さの商品を生産する能力を提供します。
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