中古 RIBER 32 #9285342 を販売中

Molecular Beam Epitaxy （MBE）は、半導体や基板上の他の材料の成長に使用される技術です。RIBER SAが製造するRIBER 32は、高度な化合物半導体デバイス製造用に設計された高性能MBE装置です。UHV （Ultra High Vacuum）モジュールを2つ搭載しており、それぞれにウエハハンドリングシステムと2つのソースボートを搭載しています。これにより、幅広い材料や基板に適しています。32は蒸着および蒸着室のためのモジュール設計を特色にします。各モジュールは材料の沈殿プロセスに適するためにカスタマイズすることができます。ガス供給、圧力、温度制御など、幅広いプロセス制御オプションが用意されています。また、急冷オーブンを装備しており、成膜後の室温を下回る基板の急冷を可能にし、材料の成長時の品質管理に優れています。同時蒸発を可能にする2つの源ボートのおかげで、高い蒸着率は、装置の製造に関連する時間とコストの削減を可能にします。さらに、機械は高度なエネルギー応答機能を備えており、沈殿前のインシデントエネルギーを正確に制御できます。2つのUHVモジュールは統合解析ユニット（IAU）に接続されており、成長プロセスの現場分析を可能にします。IAUには、in situ Reflectance-Absorption-Spectroscopy Spectrometer （RAS）、 Ellipsometer、 Quadrupole Mass Spectrometerなどの多くのコンポーネントが含まれています。これらのコンポーネントは、材料の成長をリアルタイムで監視し、材料特性を最適化するために使用できます。全体として、RIBER 32は、高度なデバイス製造に必要な高性能な成膜機能とユーザーフレンドリーなインターフェイスを提供します。多元ボート設計、急速冷却オーブン、in-situ解析機能を備えたこのツールは、化合物半導体デバイスの製造に最適です。