中古 RIBER 32 #9278911 を販売中

Molecular Beam Epitaxy （MBE）は、高品質の薄膜およびナノ構造を生成するために使用される蒸着技術です。RIBER 32は、幅広い露光性能を備えたコンパクトで使いやすいMBE装置で、様々な用途に適しています。ガリウム、ヒ素、窒素の3つの源を含み、さまざまな用途に適しています。また、堆積範囲を拡大するためのヒ素の追加供給源も含まれています。ソースは独立して制御可能であり、ユーザーは薄膜中の堆積元素の濃度を調整することができます。このシステムは、複数のレベルの成長チャンバを備えており、水晶結晶マイクロバランス（QCM）を備えており、堆積層の厚さを正確に制御することができます。成長室は温度制御され、800°Cまで達することができ、材料の広い範囲のための異なった成長条件を可能にします。さらに、成長プロセスの観察のための統合されたin-situ光学モニタリングユニットがあります。32はまた沈殿のための複数の構成を提供します。ダイレクトモードまたはリモートモードで操作できます。ダイレクトモードでは、ソースは成長基板に直面しており、堆積物はUHV、最大2x10 − 5 mbarのチャンバー圧力、Arベアリングガス、および制御された酸素またはO2/N2雰囲気などのさまざまな大気中で発生する可能性があります。遠隔モードでは、ソースは、厚いフィルムの堆積を可能にする成長基板から離れて配置されます。これらの特長と機能により、先端材料、技術、デバイス製造分野の研究開発など、さまざまな薄膜成膜アプリケーションに最適です。さらに、ユーザーフレンドリーな設計と安全機能により、マシンは便利で使いやすいです。包括的な品質保証ツールと診断ツールを備えた32は、業界をリードする堆積と成長のパフォーマンスを約束します。