中古 RIBER 32 #9260374 を販売中

RIBER 32は、半導体材料の原子層を成長させるために使用される薄膜蒸着技術の一種である分子ビームエピタキシー（MBE）装置です。このシステムは、最新の半導体生産ニーズに非常に適しており、柔軟性、温度制御、および幅広い利用可能な化合物を提供します。32は、トランスポートユニットで接続された2つの独立した真空チャンバーを採用したユニークな設計を採用しています。これにより、MBEリアクターを機械の残りの部分から分離し、残留汚染を低減し、クリーンな生産環境を維持することができます。このツールには、室温から1000°Cまでの基板温度をサポートする特別な加熱アセットも装備されています。基板ホルダーの動きはステッピングモータのモデルによって制御され、均一な蒸着のための理想的な位置に基板を保ちます。これらのモータは、チャンバー内のソースを正確に調整する進化（EV）フローコントローラと結合されています。これにより、構成に関係なく安定した環境と一貫した結果が保証されます。RIBER 32装置の中心は、高温噴出セルであり、高品質の層の信頼性の高い生産を可能にします。細胞はまた正確に調整され、変更され、異なった必要性に合わせることを可能にする。さらに、システムには石英バランスと船上リークバルブが含まれており、ユーザーはチャンバー内の雰囲気圧を調整できます。32台のユニットは、さまざまなソースインサート、ベーン、バッフル、およびシールドで構成およびカスタマイズすることができ、幅広い蒸着プロセスを組み込むモジュラー設計を備えています。これにより、アルミニウム、ヒ素、ホウ素、ガリウム、インジウム、リン、シリコンを含む化合物を含むさまざまな材料を製造することができます。全体的に見て、RIBER 32は信じられないほど可能で汎用性の高いMBEマシンです。温度制御、調整可能な大気圧力、高度なモータ制御、幅広い化合物とカスタマイズ可能なアタッチメントを備えており、多様な半導体生産ニーズに対応する比類のない汎用性と柔軟性を提供します。