中古 RIBER 32 #9260315 を販売中

MBE （Molecular Beam Epitaxy）システムは、薄膜、超格子、および半導体ヘテロ構造の製造に使用され、さまざまなコンポーネントのwthin電子デバイスを作成します。RIBER 32 MBE装置は、超高真空蒸着ユニットを表すUHV蒸着システムです。半導体基板上の薄膜の成長を単一の単層精度まで容易にするために設計された高度に制御された真空蒸着チャンバです。32 MBEツールは、ほぼすべての化合物半導体および薄膜製品の製造用に特別に設計されています。複数の大量輸送、温度制御、サンプルハンドリング、分析モジュールが含まれています。後者は、蒸着プロセスと結果として生じる材料品質を監視し、制御します。このアセットにより、0.01K未満のサーマルドリフトを最小限に抑え、信頼性を確保します。RIBER 32 MBEモデルは、生産の加速と急速な成長のためにも設計されています。ポンプ装置はクリーンな環境と制御圧力を可能にし、加熱されたマニホールドは滑らかで中断されていないフィードバックを可能にします。温度制御可能なるつぼは、大量輸送システムを通じて正確で一貫した成長を可能にします。さらに、このユニットは、2つのソースを別々のオーブンで同時に成長させることができ、より複雑な合金とヘテロ構造を可能にします。32 MBEマシンには、迅速で反応性の高い制御ループが装備されています。このアセットには、異常な成長状況が発生した場合の機器の問題を検出する自動シャットダウンモデルが含まれています。この自動化システムにより、信頼性の高い生産能力を実現します。RIBER 32 MBEユニットは、非接触安全コンポーネントを備えた基板および加熱システムの短期保護も備えています。これらのコンポーネントは、信頼性の高いプロセス品質を保証し、安全な動作のためのエアギャップと信頼性の高い基板加熱を提供します。32 MBE機械は薄膜の生産のための信頼でき、多目的な用具で、いろいろな企業で使用することができます。アセットの汎用性は、多くのアプリケーションを可能にし、信頼性の高いパフォーマンスは、一貫した品質の生産を可能にします。