中古 RIBER 32 #293628863 を販売中

製造業者
RIBER
モデル
32
ID: 293628863
System GaAS.
MBE (Molecular beam epitaxy)は単結晶材料の薄い層を作成するために使用される薄膜蒸着技術です。RIBER 32は、半導体構造の製造用に作られた、信頼性の高いコンピュータ制御機器です。それは異なった材料の1-10分子ビームまで装備され、印象的なデータ収集力を提供します。このシステムは、複雑な構造の精密分子ビームエピタキシー(MBE)成長に最適です。32はUHVチャンバーといくつかの噴出セルで構成され、サンプルホルダーの周りに六角形のジオメトリで配置されています。チャンバーは、ターボ分子ポンプ、機械ポンプ、および大気ガスのチャンバーをパージするためのイオンポンプに接続されています。半導体デバイスの基盤となる半導体の様々な層を作るために、材料やドーパントなどの反応ガス用の複数の噴出セルがチャンバーに接続されています。ユニットの動作温度は100〜1,200°Cの範囲で、メインコントロールコンピュータから調整可能です。RIBER 32マシンのチャンバーには、成長プロセスを監視するためのさまざまなアクセサリーや機器を装備することができます。例えば、石英マイクロバランスを使用して試料の厚さを制御し、反射高エネルギー電子回折(RHEED)ツールを使用して試料の構造と進行をリアルタイムで視覚的に観察することができます。質量分析法は、チャンバー内の異なる種の濃度を測定するためにも使用できます。32資産は、欠陥を最小限に抑えた高品質の構造を生産できる強力なMBE成長ツールです。コンピュータ制御の設定により、圧力、温度、組成などのパラメータをすばやく調整できます。これは、デバイス要件を一貫して変化させるための望ましいフィルムを製造するのに役立ちます。さらに、RIBER 32モデルの汎用性が高いため、オプトエレクトロニクスからエネルギー貯蔵まで、幅広い用途に適しています。
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