中古 ZYGO NewView 5000-5032-DS #9269321 を販売中

ZYGO NewView 5000-5032-DSマスクおよびウェーハ検査装置は、半導体フォトマスクおよびウェーハの高精度非破壊検査用に設計された高度な光学測定ツールです。高度な光学、レーザー、エレクトロニクスを活用して、システムは、そうでなければ気づかないかもしれない欠陥を発見するのに役立つ高度な機能と機能の配列を提供しています。このユニットは、低温で冷却された2メガピクセルRGB CCDカメラで構成され、45度の視野角、静的および動的画像キャプチャ、オートフォーカス、バックライト照明ユニットを備えています。これにより、最大25mm x 25mmの視野サイズを実現します。Zドライブを備えた高速かつ高効率なX-Yモーションマシンと組み合わせることで、ナノメートルレベルのグラフィカル測定が可能です。また、ISSMPC （Image-Stabilization Tool）は、外部安定化因子が振動やその他の環境要因により一定のスキャンシフトを引き起こす可能性がある測定条件下で正確な結果を保証するために組み込まれています。アセットは、高精細RGB色信号または通常のモノラル信号のいずれかで動作できます。また、デジタル光フィルターと従来のアナログ光フィルターの両方をサポートしています。さらに、正確なデジタルデータ補正をスキャン画像に直接適用して測定を改善できます。ZYGO NEWVIEW 5000 5032-DSは、高度な光学系を使用して、傷、斑点、粉塵粒子などの最小の機能を検出し、半導体の目に見える機能よりもさらに小さいものを検出することができます。ステレオイメージング、位相シフト干渉計、フリンジ投影、光強度の比較を利用して、高密度ウエハおよびマスクの検査を90nmまで容易にするように設計されています。また、ムラや薄膜の欠陥を検出することもできます。精度と一貫した結果を保証するために、モデルは「標準シリコーンリファレンスチップ」と呼ばれるユニークな機能を利用して、複数の異なるチップタイプとプロセスの検査を可能にします。さらに、ZYGOの詳細な解析ソフトウェアであるGOTO （Geometric Testing Equipment）は、従来の計測システムよりも深い欠陥の特定と分析に役立ちます。また、製造前に欠陥のあるウェーハやマスクのパターンを特定するのにも役立ちます。NewView 5000-5032-DSは、あらゆるマスクやウェーハ検査に正確な結果を提供するための信頼性の高い広く使用されているシステムです。この高度な計測ツールにより、エンジニアや科学者は最も小さな欠陥を発見することができ、ウェーハとマスクの生産コストを削減するのに役立ちます。