中古 ZYGO NewView 100 #85137 を販売中

ZYGO NewViewTM ZYGO NewView 100マスクおよびウェーハ検査装置は、半導体フォトマスクおよびウェーハのあらゆる要素を検査するために設計された高解像度の光学顕微鏡ベースのイメージングソリューションです。高精度なアライメントとウェーハステージングシステムを備えた大型の5軸電動イメージングテーブルを備えており、精度と再現性を保証します。NewViewTM ZYGO 100には、直感的なユーザーインターフェイスと自動検査および欠陥識別ソフトウェアも含まれており、迅速かつ効率的な結果を保証します。単位に1。2 μの側面の決断の45度の角度の視野の顕微鏡があります。最大倍率2000X、 24 ビットカラーCMOSカメラを採用した高速デジタルイメージングマシンです。デバイスの自動画像キャプチャおよび分析機能により、フォトマスクまたはウェーハ上の欠陥を迅速かつ正確に特定できます。また、単一の露出で明確な欠陥を検出することができ、同じウェーハから複数の画像をステッチする必要がある複雑な欠陥を識別することができます。NewViewTM NEWVIEW100は、非接触光計測用の4メガピクセルデジタルオプティカルセンシング（DOS）ツールを内蔵しています。これにより、マスクまたはウェーハ形状の包括的かつ正確な解析と、幅広い視覚的および構造的特徴にわたる欠陥の識別が可能になります。また、0。1 nmの解像度でレイヤーの均一性とクロニクルのエッジ整合性を測定する機能も備えています。このビデオベースの検査アセットは、迅速な欠陥の分離と分析のために設計されています。このモデルは、欠陥検出、欠陥特性評価、マスクとマスクの比較、およびプロセスフローの自動解析に使用できます。さらに、フォトリソグラフィの性能、ラインエッジの粗さ、フォトマスクやウェーハのパターン忠実度を評価するためにも使用できます。ZYGO NewViewTM NewView 100は、優れた性能と正確な結果を提供する高性能イメージングおよび計測機器です。ユーザーフレンドリーなインターフェイス、自動欠陥識別機能、直感的な解析機能により、迅速かつ効率的な半導体マスクおよびウェーハ検査を実現します。