中古 ZYGO Mark II #76460 を販売中

ZYGO Mark IIは、半導体ウェーハやマスクの検査に使用されるマスクおよびウェーハ検査装置です。それは光学、物理的および電気技術の組合せです。このシステムは、スキャン顕微鏡、光学レーザー干渉計、および目視検査モジュールで構成されています。スキャン顕微鏡は、試料の表面欠陥を検出するために使用されます。光学レーザー干渉計は、寸法、表面平坦度、および表面曲率などの試験片の重要なパラメータを測定するために使用されます。目視検査モジュールは、試験片のアライメント、表面、および微細構造を検査するために使用されます。顕微鏡の光学部品は、高解像度の画像を提供するように設計されています。レーザー干渉計は、試験片の表面全体の高さの変化と同様に、垂直および横方向の位置を測定するために使用されます。単位にまた間隔、速度、温度および位置を測定するのに使用されるデジタルエンコーダーがあります。マークIIマシンは、粒子状汚染物、ピンホール、ボイドなどの幅広い表面欠陥、ならびに表面粗さや欠陥サイズ分布などのより微妙な欠陥を検出することができます。デジタルイメージングソフトウェアを使用すると、分析と比較のために大量の画像をすばやく生成できます。また、抵抗の増加やショーツの存在など、試験片の電気的挙動の異常を検出することができます。これにより、試験片の電気試験中に欠陥を検出することができます。ZYGO Mark IIモデルは、表面歪み、応力勾配、破壊靭性、可塑性など、幅広い機械的応力を測定することもできます。これは、試験片のひずみエネルギーだけでなく、応力濃度を測定することができます。装置は完全に自動化され、生産プロセスで動作するように設計されています。制御インターフェイスにより、ユーザーはシステムの動作をプログラム、実行、および監視することができます。特定のアプリケーション用にユニットをセットアップしたり、一連の複数の操作を実行したりするために使用できます。マークIIは、光学、物理、電気技術を組み合わせ、半導体製造の包括的なソリューションを提供する最先端のマスクおよびウェハ検査機です。多彩な機能により、幅広い半導体ウェーハやマスクを迅速かつ正確に検査することができ、複雑な半導体構造の信頼性と品質保証に最適なツールです。