中古 ZEISS / HSEB ZML-200 #9249420 を販売中

ZEISS/HSEB ZML-200は、精密マスクおよびウェーハ検査用のマスクおよびウェーハ検査装置です。光素子とフレキシブルレチクルの間に独自のギャップを使用して、正確なアライメントと優れた画像解像度を実現します。HSEB ZML-200は、業界をリードするダークフィールドセンサーモジュールと特許取得済みのアルゴリズムを使用して、高速かつ高解像度のイメージングを提供します。これにより、他の検査システムでは見られないほど小さい欠陥を検出および測定できます。システムは、レチクル、暗視野カメラ、光源で構成されています。レチクルは中央リングと調整可能な2つのアームで構成され、調整可能なレチクルホルダーに接続されています。これにより、検査光学系の位置を正確に設定し、高品質な画像を確保することができます。Darkfieldイメージングカメラには、外部CCDイメージセンサーと内部視野が装備されており、テスト済みのマスクまたはウエハを広範囲に表示できます。これにより、ユニットは最小の欠陥を検出することができます。光源は、蛍光とUV照明のユニークな組み合わせを使用して、最大の照明のために設計されています。これにより、均一で最適な明るさを提供しながら、エリア全体に均一な照明を保証します。さらに、特別なデジタルイメージング機能により、人間の目のしきい値を下回る欠陥など、最も複雑な細部まで機械がキャプチャできます。ZEISS ZML-200は、さまざまなマスクやウェーハを検査することができます。フォトマスク、ウエハー、クリティカル・ディメンション（CD）測定など、さまざまな検査に使用できます。このツールには、検査プロセスとデータ収集のユーザーを支援するための必要なソフトウェアが装備されています。アセットは直感的なソフトウェアインターフェイスで非常に使いやすく、直感的なユーザーインターフェイスにより、データの効率的な分析と解釈が可能です。ZML-200はマスクおよびウェーハの点検のための理想的な用具です。このモデルは、優れた精度、高速かつ正確なイメージング、および効果的な欠陥検出のための高度なアルゴリズムを提供します。その直感的なユーザーインターフェイスと高度なソフトウェアツールは、マスクとウェーハ検査のための信頼性が高く効率的なツールです。