中古 ZEISS / HSEB ZML-200 #9249419 を販売中

ZEISS/HSEB ZML-200は、半導体デバイス製造の困難な分野で優れた性能を提供する業界をリードするマスク&ウエハ検査装置です。1時間あたり最大200個のウェーハを処理することで、大量生産の検査を効率的に処理します。HSEB ZML-200は、高解像度のCCDカメラを使用して各マスクまたはウェーハをスキャンし、製造過程で気づかなかった可能性のある欠陥を検索します。内蔵の欠陥検出アルゴリズムとカスタマイズされたユーザーインターフェースを使用して、マスクやウェーハの最小欠陥をすばやく識別できます。また、使いやすく、迅速に機能するように設計されているため、ユーザーはマスクやウェーハの検査を迅速かつ正確に診断することができます。このツールの速度と精度をさらに向上させるために、アセットには高度な高精度フォーカス制御モデルが装備されています。この装置は、マスクまたはウェーハのあらゆる機能にすばやく焦点を当て、ポイント・ツー・ポイントまたはエリア・ツー・エリアの迅速な検査を可能にします。また、複数の半導体デバイスのレシピをテストして最大限の製品歩留まりを確保する機能も備えています。金属と絶縁層の複雑なネットワークを監視することにより、ライン幅のバリエーション、ショート、開口部、絶縁欠陥、オーバーubbingなど、幅広い欠陥を検出することができます。機械にまた自己テストの特徴のホストが、あらゆる維持が正しく完了することを保障しますあります。最後に、ZEISS ZML-200には、ユーザーが操作をカスタマイズできる多数のソフトウェアオプションが装備されています。欠陥解析ソフトウェアが内蔵されているため、検査のデータを記録して保存することができます。さらに、このツールにはパターン認識最適化ソフトウェアが装備されているため、ユーザーの入力に基づいて常にスクリーニング設定を学習および変更できます。結論として、ZML-200は、生産歩留まりを最大化し、コストを削減し、マスクまたはウェーハ検査に費やす時間を短縮するように設計された業界をリードするマスク&ウェーハ検査モデルです。ZEISS/HSEB ZML-200は、高解像度CCDイメージング、カスタマイズされたユーザーインターフェース、最先端の欠陥解析およびパターン認識最適化ソフトウェアなどの最先端の機能を備え、あらゆる半導体デバイス製造施設に最適です。