中古 YEST YIH-2400 #9098826 を販売中

YEST YIH-2400は、半導体生産プロセスにおける高度なプロセス制御（APC）を高めるように設計されたマスクおよびウェハ検査装置です。このシステムは、高度な光学検査技術を備えており、マスクやウェーハの目視検査の困難な作業に信頼性が高く、迅速かつ正確なソリューションを提供します。マスクとウェーハ検査ユニットは、効率的で信頼性の高いソリューションを提供するために、多くの機能を利用しています。問題のウェーハやマスクの多層カラーイメージをユーザーに提供し、最小の欠陥でも正確に検出します。まずは紫外線（UV）の下でウェーハとマスクを撮影し、高感度光学と赤外線（IR）と顕微鏡カメラを使用して画像からすべての情報を収集することによって機能します。このマシンには、フィールド・プログラマブル・ゲート・アレイ（FPGA）が含まれており、データの高速処理とユーザー定義の検出パラメータを可能にします。それは傷、ピット、マスクの穴、ゲートmis登録、オーバーレイのmis登録、塵、汚染、マスクの傷、等のようなさまざまな欠陥を検出できます。YIH-2400の特長は、画像解析の機能です。多種多様なオンボードアルゴリズムにより、このツールは欠陥を特定し、欠陥分類を実行し、欠陥を含む可能性のある領域をスキャンすることができます。また、フレキシブルな照明選択のために最大256のレーザーレベルをサポートし、外部メモリにデータをコピーして保存する機能を備えています。全体として、YEST YIH-2400マスクおよびウェハ検査資産は、半導体業界およびその他の関連する生産段階での使用に非常に適しています。迅速かつ正確な検出機能は、ターンアラウンドタイムを大幅に短縮できる優れた資産です。さらに、このモデルの画像解析機能は、複雑なプロセスに依存する業界に利益をもたらす、高精度で信頼性の高い欠陥検出の大きな可能性を提供します。