中古 ULTRAPOINTE 1000 #9026314 を販売中

ULTRAPOINTE 1000は、フォトマスク、半導体フォトマスク、半導体ウェーハの高解像度イメージングおよび解析用に設計されたマスクおよびウェーハ検査装置です。最大3.3µm分解能でのウェーハ検査が可能で、精度と再現性に優れています。1000は、画期的なマスクおよびウェーハ検査技術を活用して、高精度で再現性のあるフォトマスクおよびウェーハのスキャンにおいて比類のない性能を提供します。このユニットは、ウェーハステッパー、1台以上の高解像度カメラ、レンズ/光学インタフェース、およびコンピュータベースの画像解析および取得機で構成されています。ウェーハステッパーは、正確な位置合わせ、光学部品、およびカメラを備えたロボット機構を提供します。ステッパーに搭載された高解像度CCDカメラは、分析のためにウェーハの上下の画像を取得します。ウェーハステッパーは、ウェーハの平面上でキャプチャプロセスが安定していることを確認するために、防振エアアイソレータのペアによって安定化されています。ULTRAPOINTE 1000は、3。3 μ mまでの分解能を提供する精密加工部品によって提供される高効率光学を備えています。広角光学ツールを使用して視野を最大化し、複数のマスク/ウェーハ検査ポイントを同時に分析することができます。レンズ/光学インターフェイスはウェーハステッパーに直接取り付けられ、最適なスキャンフィールドを正確に設定できます。コンピュータベースの画像解析および取得資産は、画像を迅速かつ正確に分析できる強力なソフトウェアツールを提供します。高度な3Dアルゴリズムにより、傷、ほこり、粒子、その他の汚染物質などの一般的な欠陥のウェーハの欠陥認識と検査が可能です。1000のマスクおよびウェーハの点検モデルは現代半導体の製作プロセスによって要求される正確さ、再現性および高解像度を提供します。その先進的な光学および画像解析装置は、フォトマスクおよびウェーハ検査において比類のない性能を提供します。このシステムを活用することで、半導体製造業者は問題を迅速に検出することができ、生産の高速化、コストの削減、最終的には高品質の半導体製品の市場への納入の改善につながります。