中古 TOKYO AIRCRAFT MEASUREMENT MAC-92 #293587749 を販売中

TOKYO AIRCRAFT MEASUREMENT MAC-92 （T。A。M。 MAC-92）は、半導体製造に必要な厳格なフォトマスクおよびウエハクリティカル寸法（CD）測定および検査要件を満たすように設計されたマスクおよびウェハ検査装置です。T。A。M TOKYO AIRCRAFT MEASUREMENT MAC-92は、ミクロンレベルまで分解能を提供できる高速、高精度、非接触スキャン顕微鏡です。FESEM （Field-emission Scanning Electron Microscopy）とレーザー共焦点顕微鏡を組み合わせた明るいフィールドイメージングシステムを使用して、パターン化されたサンプルの高速かつ正確な測定と検査を可能にします。このユニットは、可変スキャンサイズとスキャン速度を備えた高感度4チャンネル検出器を使用するなど、性能と精度を向上させるためにいくつかのオプションで構成することができます。また、検出器には特殊な高感度機能が搭載されており、小規模パターンの正確な測定が可能です。さらに、2チャンネルのレーザー干渉計マイクロディスプレースメントステージを搭載し、変位を最小限に抑えた高精度のステージ移動を可能にします。T。A。M。 MAC-92は、欠陥ミニチュアマスク欠陥またはウェーハ半導体層の高度なパターン検査機能を提供します。pattern inspectorオプションを使用すると、最大4つのカスタム欠陥タイプを定義できます。さらに、このツールは、光学または電子ビームイメージングを使用して、さまざまなマスク層のパターンを分析することができます。このアセットは、さまざまな表面および超低k層の高度なマスクおよびウェーハ断層検出機能も提供します。このモデルは、ユーザーフレンドリーで操作しやすいように設計されています。グラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）を備えたタッチパネルを備えており、すべての重要なパラメータと設定が表示され、効率的な運用とメンテナンスが可能です。システムの精度を確保するために、自動校正プロセスが機器に組み込まれています。T。A。M TOKYO AIRCRAFT MEASUREMENT MAC-92は、高精度マスクとウェーハ検査に最適です。ミクロンスケールで正確、再現性、高速測定が可能であり、半導体製造の精度と品質を保証する最も信頼性の高い信頼性の高い手段を提供します。