中古 TKK MAC-92MV1 #9227386 を販売中

TKK MAC-92MV1は、半導体の製造に使用するために設計された高度なマスクおよびウェーハ検査装置です。最大横分解能0。08ミクロンのウェーハレベル測定が可能で、高解像度、暗場、明るいフィールド、RGBなど、幅広いイメージングモードに対応しています。このシステムは、マスク機能の配置に基づいて画像をキャプチャして整列させることができる自動画像登録機能を備えており、検査プロセスに高い精度と再現性を提供します。このユニットには閾値感度機能もあり、パターン認識と反応のレベルを制御することができます。MAC-92MV1は高度な光学およびデジタル信号処理が装備されています。Nikkorレンズ、デジタルカメラ、リニアCCDセンサーは、比類のない感度、明瞭さ、精度で4。8umの画像解像度を提供します。このマシンは、高度な画像処理アルゴリズムを使用して、欠陥検出および分類のための機能を識別および分析します。ユーザーフレンドリーなタッチスクリーンのグラフィカルインターフェイスは操作を簡素化し、ユーザーに幅広い測定および表示機能を提供します。このツールは、検査結果、特徴画像、およびレチクルのデジタル画像を保存することができ、ユーザーは検出された欠陥をすばやく確認して反応することができます。アセットは、上層または下層から要素を選択できるデュアルレイヤー検査にも適しています。TKK MAC-92MV1は、従来のウェーハ検査システムよりも多くの機能を提供します。ワイヤーブリッジや粒子汚染などの複雑な欠陥を処理するために設計されており、フォトマスク製造プロセスの各段階をサポートする包括的なプラットフォームを提供します。このモデルにより、オペレータはマスク製造プロセスの品質を即座に監視することができ、人件費の削減とダウンタイムの最小化に使用できます。