中古 SIEMENS Optrix 3D / 3000 #9169220 を販売中

SIEMENS Optrix 3D/3000マスク&ウェーハ検査装置は、次世代の3次元（3D）デバイスの欠陥を分析および検出するための次世代の先進検査ツールです。このシステムは、フォトマスクやレチクル検査、ウェハ検査などの高度な半導体プロセス向けに設計されており、高解像度と精度が求められます。このユニットのコア機能は、高度な3Dイメージングアーキテクチャと方向照明を利用してフォトマスクとウェーハの詳細を検査することにあります。Optrix 3D/3000は、レーザーと光学の組み合わせを使用してデバイスの正確な3D画像を作成し、分析して欠陥を検出します。このアプローチは、欠陥を正確に優先順位付けおよび特定し、スループットと歩留まりを向上させるのに役立ちます。機械のリアルタイム欠陥検出技術は、高いスループットで信頼性の高い正確な検査機能を提供します。ラインスペースと線幅の測定、グレーレベルのバリエーション、パターンマッチングなど、包括的な画像解析アルゴリズムを備えており、欠陥の正確な検出と分類を保証します。このツールには、直感的なユーザーインターフェイスと、画像のリアルタイム操作を可能にするさまざまなツールと設定が装備されています。イメージフォーカス調整、コントラスト設定、カラー強化などの機能を搭載しています。SIEMENS Optrix 3D/3000は、薄膜トランジスタ、CMOSイメージセンサ、MRAM、 MCU-on-APS、ミックスシグナルASICなど、さまざまなウエハサイズと種類のウエハーで動作するように設計されています。さらに、アプリケーションごとに機器の設定を調整できる自動チューニングモデルや、検査結果のトレーサビリティを確保する完全な欠陥データベースアクセスなど、さまざまな機能強化が施されています。このシステムは、SEMI E34、 1D、 2Dなどの主要な顧客標準に準拠しているため、さまざまな顧客要件に適しています。Optrix 3D/3000マスク&ウェーハ検査ユニットは、高度な半導体デバイス検査のための次世代ツールです。指向性照明と3Dイメージングアーキテクチャを使用して、正確な3Dイメージングと自動欠陥検出を実現します。直感的なユーザーインターフェイスと一連の画像解析アルゴリズムを備えており、最高の精度と検査結果のトレーサビリティを確保します。このマシンは、さまざまな半導体デバイス検査アプリケーションに最適で、スループットと歩留まりを向上させます。