中古 SEMITEST Epimet II #9105435 を販売中

SEMITEST Epimet IIは、あらゆるタイプのリソグラフィーパターンをマルチレベルで分析するために設計されたマスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムには、高度な光学構成オプションが含まれており、高解像度のイメージングとアルゴリズム機能認識を提供します。Epimet IIの主な構成要素は、光学顕微鏡と制御装置です。光学顕微鏡は、パターンサンプルの画像をレーザー照明で捉え、デジタル形式で収集します。単位によって提供される対物レンズはより高い細部のパターンを評価するために倍率の異なった程度を可能にします。パターンイメージの解析にはコントロールユニットを使用します。高速処理、高度なアルゴリズム認識機能を搭載し、リアルタイム解析が可能です。制御ユニットを使用して、パターンを参照画像と比較したり、線幅や線間のピッチなどの特徴を測定したり、欠陥を検出したり、潜在的な歩留まりの問題を特定したりできます。画像解析に加えて、SEMITEST Epimet IIを使用してウェハテストを自動化できます。ウェーハの電気的および光学的特性を測定するために、分光楕円計などの接触センサおよび非接触センサを装備することができます。これにより、製造プロセス中のテストで、完了前に潜在的な問題を特定することができます。Epimet IIは、正確で高速で信頼性の高いマスクおよびウェーハ検査ツールを提供します。パターン化されたウェーハの潜在的な欠陥や歩留まりの問題を検出するための高度に自動化されたプロセスを提供します。このアセットは、パターンサンプルのマルチレベル分析を可能にし、サンプルの特徴と特性を詳細にフィードバックして正確な評価を行います。