中古 SDI CMS III-AR #9152693 を販売中

SDI CMS III-ARは、高度なイメージング、分析、レポート機能を備えた最先端のマスク&ウェーハ検査装置です。これは、平均ベクトル差（AVD）アルゴリズム、マスクやウェーハの欠陥を迅速に検出し、見つけるために、いくつかの異なるイメージング技術に基づいて高度な検査アルゴリズムを利用しています。このシステムは、最大直径300mmのマスクまたはウェハサンプルで5µm分解能で動作するトップダウンレーザー投影モジュールを備えています。装置のイメージング部品は、線幅の変化やブリッジなどの微妙な欠陥を検出するための高精度と解像度を提供します。汎用性の高い分析ツールは、欠陥を検出して修正することができます。マスクおよびウエハプロファイルおよびオーバーレイ登録、自動欠陥形状解析、および欠陥シード解析はすべて組み込みの機能です。ユニットのステージは重い荷重にも対応可能で、大面積のイメージングにも使用できます。また、ステージ位置決め精度に優れた高解像度エンコーダを内蔵しています。多くの構成が用意されており、RGBイメージングまたはマルチビームレーザー光源用に最大3台のカメラを搭載し、精度を高めています。コンピュータ制御の光学マシンは、最適なイメージングと測定性能のためにビームとカメラを校正します。ツールのソフトウェアは、複数の画像やグラフを比較して同期することができる洗練されたグラフィカルユーザーインターフェイスを提供しています。また、データ交換とストレージのための幅広いフォーマットをサポートしています。画像解析およびレポート機能は高度にカスタマイズ可能で、カスタマイズ可能なソースとモジュール解析ツールを備えています。高度なレポート機能により、あらゆるタイプの欠陥検出および測定のための迅速かつ簡単なデータ出力が可能になります。CMS III-ARは幅広い生産環境に適した汎用性の高い資産です。そのユニークな機能セットは、今日の高度な生産環境で歩留まりを向上させる費用対効果の高い方法を提供します。高度な機能により、最適なプロセス性能を保証し、優れた製品品質を保証します。