中古 SDI CMS III-A #9045538 を販売中

SDI CMS III-Aは、ウェーハおよび半導体マスクパターンの高速・高スループット解析用に設計されたマスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムは、250nmの解像度を持つ最先端の自動スキャンユニットを使用して、ウェーハおよびマスク上の構造を測定および評価し、欠陥解析を行います。検査機能により、高速かつ正確で再現性の高い検査が可能となり、リソグラフィー誤差、薄型マスク、機能欠損、汚染などのさまざまな欠陥を検出して分析することができます。光源、照明ウェーハ、イメージセンサー、モニターに接続されたコンピュータの4つの主要なコンポーネントで構成されています。光源は正確なイメージ投射のための単色照明を提供する2つの紫外レーザーの組合せです；最適にレーザー光を指示し、放射熱へのデバイスの露出を最小限に抑える液晶ディスプレイ（LCD）。回折光学素子（DOE）は、ツールの視野を増加させ、分析に必要な画像の数を減らします。照らされたウェーハはLCDの上に置かれ、ターゲット構造をレーザー光にさらし、CMOSイメージセンサーによって検出されます。イメージセンサは、250nm程度の構造を解像することができ、画像をサンプリングしてコンピュータに送信して解析します。アセットに存在する高度な処理アルゴリズムにより、数秒で画像をキャプチャおよび分析できます。欠陥、構造の不規則性、傷、汚染など、あらゆる種類の欠陥を検出するように設計されています。エンジニアが問題を迅速にトラブルシューティングできるように、包括的なレポートを作成します。コンピュータはまた、モデルによって収集されたすべてのデータと同様に、キャプチャされた画像を表示するモニターに接続されています。半導体業界における製造プラントやラボ設置におすすめのマスク・ウエハ検査装置で、高度な解析アルゴリズムを駆使して欠陥を検出しながら、高速かつ正確にウェーハやマスクを検査することができます。このシステムは使いやすさのために設計されており、ウェーハおよびマスク構造の迅速で正確な検査と分析を可能にします。