中古 RUDOLPH / AUGUST NSX 95 #9206625 を販売中

RUDOLPH/AUGUST NSX 95マスクおよびウェハ検査装置は、半導体製造に使用される高性能で自動化された光学リソグラフィーツールです。レチクルとウェハマスクの正確かつ迅速な検査を行うように設計されています。AUGUST NSX-95は、高度で非破壊的な欠陥検出、特性評価、解析機能を包括的に提供し、迅速な特性評価と微調整を可能にします。RUDOLPH NSX 95は、レチクルやウェーハなどの特定のマスクタイプの検査をカスタマイズするためのいくつかのセットアップ段階で構成されています。ウェハトランスポートシステムは、マスクを場所に移動させ、表面ステージで固定するために使用されます。次に、レチクルを表面ステージに配置し、画像の中心がウェーハの表面と正確に一致するように整列させます。レチクルを適切に配置すると、光学アライメントユニットがレチクルをスキャンして、結果の最高精度を保証します。RUDOLPH/AUGUST NSX 95マシンの光学素子の解像度は、競合するシステムよりも高く、より迅速で正確な検査を保証します。これにより、マスク素子と対応するウェーハの表面のアライメントをより正確にチェックできます。また、焦点の広い深さを提供します。この焦点深度の拡張により、検査ツールは肉眼ではなかなか見えない溝や溝に隠された特徴を識別することができます。さらにNSX 95は、高度な欠陥検出機能を誇っています。アセットは、電気的、光学的、または構造的カテゴリを包含する欠陥を特定するための高度なアルゴリズムでプログラムされています。有機、無機、格子、または構造欠陥を検出し、区別することができます。さまざまな設定により、異なる欠陥カテゴリを区別でき、自動設定でプロセス時間を短縮できます。欠陥検出メトリックに加えて、AUGHT NSX 95は包括的なパフォーマンス分析を提供します。信号対雑音比、コントラスト比、ディフェクトイメージコントラスト、ディフェクトサイズなどの重要なパラメータを評価します。さらに、視野の10倍以上の大きさの印刷領域を正確にシミュレートすることができます。この高度なシミュレーション機能により、エンジニアは大面積の設計の印刷性と性能を予測することができます。NSX 95は、レチクルとウェハーマスクを検査および分析するための貴重なツールです。光アライメントと高度な欠陥検出機能を組み合わせることで、大量生産に最適です。その焦点深度の拡張と詳細なパフォーマンス分析は、確実に生産の信頼性を高めることができます。