中古 RUDOLPH / AUGUST NSX 330 #9328671 を販売中
URL がコピーされました!
RUDOLPH/AUGUST NSX 330は、半導体ウェーハの解析用に特別に設計されたマスク&ウェーハ検査装置です。このシステムは、高度な光場イメージングと光学認識を使用して、ウェーハ上のパターン、粒子、欠陥の高解像度画像を実現する高度なイメージングおよび分析技術を備えています。14マイクロメートルで最大14マイクロメートルの視野と、毎秒最大700万画素の高速画像取得速度を備えています。また、複数の画像キャプチャ操作を実行する機能を備えており、ユニットに3Dおよび統計画像解析技術を追加します。ユーザーが選択可能な専用カラーパレットを使用することで、ユーザーがウェーハ上の欠陥や機能をすばやく検出できるように、イメージング機能がさらに向上します。ハイエンドイメージング技術は、画像のシンプルで洗練された処理と解釈を提供する高度な画像認識アルゴリズムでさらに補完されています。さらに、このマシンは半自動フォルト絶縁と欠陥密度推定を備えています。最大15の障害タイプと欠陥タイプを迅速かつ正確に追跡およびローカライズできます。このツールは、ハイエンド解像度を達成するためのラインスキャンと散乱光イメージング技術を統合しています。さらに、AUGUST NSX 330は外部データソースと通信するためのシリアルインタフェースを備えています。このアセットは、シリコンやガリウムヒ素ウェハなど、幅広い半導体ウェハタイプの検査および分析に使用できます。これは、小さな粒子や不純物、ならびに大きな欠陥を検出し、分析することができます。これは、業界標準のSTDFプロトコルを含む、さまざまな業界標準に準拠するように構築されています。RUDOLPH NSX-330はマスクおよびウエハの点検の速く、信頼できる方法を提供します。パターン認識、特徴検出、断層分離、欠陥密度推定など幅広い用途向けに設計されています。高度なイメージング技術とユーザーフレンドリーなインターフェースにより、ユーザーエラーを低減し、ウェーハ分析を改善します。
まだレビューはありません