中古 RUDOLPH / AUGUST NSX 320 #9229193 を販売中

RUDOLPH/AUGUST NSX 320マスク&ウエハ検査装置は、品質管理と欠陥検出に使用される強力な統合ツールです。最先端の光学技術、画像処理技術、直感的なユーザーフレンドリーな環境を組み合わせ、最大6インチウェーハまでの幅広い材料で、トポグラフィ、ウェーハプロファイル、および微細構造の信頼性の高い測定を可能にします。システムの主なコンポーネントには、高解像度カメラ、光学ボックス、xyステージ、ソリッドステート録音ユニットがあります。光学ボックスには、直接光学顕微鏡、象限コンビネーションレーザー干渉計、レーザーマシンが収納されています。光学顕微鏡は、4倍から30倍までの可変倍率を持つ高解像度CCDカメラを内蔵しています。レーザーツールは、ウェーハの高さプロファイルを測定するために正確に調整された4つのレーザーで構成されています。xy-stageを使用すると、ウェーハをさまざまなフォーカスポイントに移動できます。AUGH NSX 320は、高度な画像処理アルゴリズムを使用して、取得した画像をスピードと精度で処理します。画像は、ウェーハの地形と反射率マップを1ミクロン以下の精度で生成するために処理されます。その後、地図は色分けされたディスプレイに配置され、技術者はウェーハの欠陥をすばやく特定することができます。ステージのオートフォーカス機能と併せて、アセットはプロファイル、ミクロンレベルの特徴、および各タイプのウェーハの組成を正確に測定できます。さらに、RUDOLPH NSX 320ソフトウェアには、欠陥の識別と分類のプロセスを自動化するための包括的な一連のツールが含まれています。これには、欠陥検出、評価、および特性評価のためのアルゴリズムが含まれます。このソフトウェアには欠陥署名のライブラリも含まれており、検査官は既知の欠陥署名をすばやく比較して、人間にかかる時間のほんの一部で識別することができます。NSX 320モデルは、ウェーハとマスクを検査および分析するための統合された強力で高精度なツールです。最先端の光学系、画像処理、ユーザーフレンドリーなソフトウェアを組み合わせ、最大6インチウェーハまでの幅広い材料を正確に測定できます。最新の半導体製造に不可欠であり、製造されたウェーハの品質と信頼性を確保します。