中古 RUDOLPH / AUGUST NSX 115D1 #9270582 を販売中

RUDOLPH/AUGUST NSX 115D1 Mask&Wafer Inspection Equipmentは、半導体デバイスの検査用に設計された、高度でコンパクトでエネルギー効率の高いシステムです。マスクやウェーハのパターンや特徴を効率よく調べることができ、完成品の正確な検査・分析が可能で、高品質で信頼性の高いウェーハを確保します。高速画像検出・補正、高解像度画像処理、自動処理・計測、柔軟な画像取得モードなど、さまざまな機能を提供します。このユニットは、検査エリアの均一なカバレッジのために高輝度の照明を備えた高度な光源を使用しています。これにより、マスクやウェーハ上の最小の機能でも検出することができます。ユーザーはまた必要な対照および対照の感受性を得るために照明レベルを制御できます。このマシンは、画像取得時に高速かつ精度を提供する統合レーザースキャンステージを備えています。さらに、パターンやフィーチャーのエラーを検出するために、ウェーハを正確に配置して整列させる専用のヘッドステージがあります。AUGH NSX 115D1には、レーザーベースのオープンアーキテクチャが組み込まれており、さまざまなパターンや欠陥のカスタム分析と測定を簡単に提供できます。また、フィルタリング、シャープニング、エッジ検出などの統合されたプリプロセス機能も提供しており、より迅速で正確な欠陥検出を可能にします。また、高解像度カラーカメラを搭載し、検査対象物のパノラマ撮影も可能です。さらに23。5 インチLCDタッチスクリーンモニターがあり、ユーザーが資産を操作するための簡単で直感的なインターフェイスを提供します。さらに、RUDOLPH NSX 115 D 1には最新の統合ソフトウェアが搭載されています。さまざまな検査・分析機能にアクセスできるため、マスクやウェーハの欠陥を正確に検出することができます。ソフトウェアはまた、画像の完全な3D解析を提供し、さらに欠陥の認識と処理を可能にします。このモデルにはユーザーフレンドリーなインターフェースが装備されており、機器の内部設定やパラメータに完全にアクセスでき、生産プロセスでの機器の効率的な使用を可能にします。この装置はさらに熱および振動保護を備えており、幅広い作業条件での使用に適しています。RUDOLPH NSX 115D1 Mask&Wafer Inspection Systemは、マスクとウェーハの包括的かつ正確な評価をユーザーに提供できる最先端のユニットです。その特徴と機能は、半導体デバイスの検査に最適なツールです。