中古 RUDOLPH / AUGUST NSX 115 #293638622 を販売中

RUDOLPH/AUGUST NSX 115は、リソグラフィやフォトマスクに使用される半導体マスクの検査用に設計されたマスク&ウェハ検査装置です。AUGH NSX 115は、高度な画像認識および光学検査技術を活用して、サブミクロンレベルで半導体ウェーハの欠陥を効率的かつ正確に識別することができます。RUDOLPH NSX 115は、サブミクロン欠陥の測定精度を向上させるためにRGB LED照明を使用しています。このLED照明には高度な画像処理ソフトウェアが付属しており、マスク構造のパターン、欠陥、変更を正確に識別することができます。サブミクロンレベル整流以外にも、マクロレベルの欠陥を自動欠陥分類機（ADC）で検出することができます。NSX 115は、ツールの画像出力を表示する12 インチS 4モニタを内蔵しています。検査プロセスの結果は、RUDOLPH/AUGHT NSX 115の特別に設計されたユーザーインターフェイスで簡単に確認および評価することができます。AUGH NSX 115は、ウェーハの自動ロード/廃棄アセットも提供しており、最大限の効率とスループットを実現します。RUDOLPH NSX 115は、マスクおよびウェハ検査に加えて、フォトマスク処理用の特殊パッケージなど、幅広い特殊アプリケーションソフトウェアにも対応しています。アプリケーションソフトウェアには、ユーザーが検査プロセスをカスタマイズできるイメージングパラメータの包括的なライブラリがあります。また、シリコンウェーハ、カプセル化された基板、ベアダイウェーハなど、さまざまな基板を加工することができ、あらゆる半導体プロセス検査に効率的なツールとなっています。要約すると、NSX 115マスク&ウェハ検査モデルは、半導体プロセス検査のための高度で効率的なツールです。LED照明、高度な画像処理ソフトウェア、アプリケーション固有のソフトウェアパッケージにより、RUDOLPH/AUGHT NSX 115はサブミクロンとマクロレベルの両方の欠陥を正確に識別することができます。また、AUGH NSX 115にはウェーハの自動読み込み/破棄装置が搭載されているため、あらゆる検査プロセスに最適です。