中古 RUDOLPH / AUGUST NSX 105 #9276182 を販売中

ID: 9276182
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2005
Wafer inspection system, 8" Standalone Main body EFEM Main UI Protection bar Manual type Inspection edge contact chuck Platform for 8" Matrox 4M GENESIS Board Inker KEYENCE LK-G15 Focus sensor Objectives: 1x, 2x, 3x, 5x and 20x Camera type: ADIMEC 1600M (7.4 um/pixel) Ring light (Dark file illumination) Without robot handling module 2005 vintage.
RUDOLPH/AUGUST NSX 105マスク&ウェーハ検査装置は、非常に高精度で幅広いマスクおよびウェーハを検査するために設計された特殊な産業機器です。最先端のCMOSイメージング技術と高度な光学設計を組み合わせ、検査サンプルの優れた画質を提供します。AUGTH NSX-105 Mask&Wafer Inspection Unitのユニークな設計により、マスク、ウェーハ、および欠陥のレチクルの自動測定を迅速かつ正確に行い、最も厳しい品質管理および試験基準での使用に理想的です。RUDOLPH NSX 105マスク&ウェーハ検査機は、ツールに内蔵された特許取得済みのUltra Contrast Hypersensitive (UCH)イメージングモジュールを備えており、検査サンプルの画像コントラストを強化し、明瞭度と解像度を向上させます。また、マスクやウェーハ画像のインライン検査が可能な高解像度イメージングツールを搭載しています。さらに、NSX 105マスク&ウェーハ検査モデルには微細分注装置が搭載されており、感光材料をサンプル表面に自動的に分散させることができます。このマイクロディスペンシングシステムにより、大型および各種形状のサンプルを迅速かつ正確に検査することができます。RUDOLPH/AUGUST NSX-105 Mask&Wafer Inspection Unitには、高密度欠陥の検出と解析のための高度な画像処理およびソフトウェアアルゴリズムも組み込まれています。これらのアルゴリズムは、フーリエ解析やその他の最新の測定技術に基づいており、検査で最も微細な変化を最高の精度でキャプチャすることができます。さらに、パターンのずれや幾何学的な歪みなどのエラーを検出して修正することもできます。さらに、RUDOLPH/AUGUST NSX 105マスク&ウェーハ検査ツールは、低温または高温、湿度、破片などの極端な環境条件で使用するように設計されています。また、高速での欠陥検査が可能で、極限環境下でも幅広い光学フィルターや照明源を備えています。また、欠陥検査の詳細レポートを作成するための統合レポート生成ツールと、簡単な操作のためのグラフィカルユーザーインターフェイス(GUI)も備えています。このモデルは、優れた性能と信頼性の高い結果を提供しながら、非常に費用対効果が高く、低い運用コストを提供するように設計されています。全体として、RUDOLPH NSX 105マスク&ウェーハ検査装置は、さまざまな業界で高精度のマスクおよびウェーハ検査を行うための強力で信頼性の高いツールです。検査プロセスにおいて精度、精度、生産性を重視するあらゆる企業にとって必須です。
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