中古 OSI POLYCHECK W-LAF #9329316 を販売中

OSI POLYCHECK W-LAFは、OSI Opto Electronicsが開発したマスクおよびウェハ検査装置です。フォトマスクやウェーハの欠陥を発見するための時間と労力を削減するために設計された完全に自動化されたシステムです。ウェーハやフォトマスクの画像を調べて欠陥を特定し、あらかじめ分類しておく。POLYCHECK W-LAFは、光学レーザー投影機を使用して、25 μ m未満の粒子など、極めて小さな粒子や欠陥を検出することができます。このツールは、マスクとウェハサイズの両方の受容性を検査するだけでなく、マスクの両側に欠陥を見つけるのにも適しています。分解能に加えて、アセットには2つの異なる光学機能があり、迅速かつ正確な検査が可能です。このモデルにはライブイメージング機能が含まれており、マスクの検査プロセスを簡素化および高速化します。ライブイメージング機能は、ウェーハの画像をリアルタイムでキャプチャし、オペレータが画像内の欠陥をすばやく確認することができます。この機能は、同じ検査結果を迅速に複製できるため、大量の製造アプリケーションで特に便利です。OSI POLYCHECK W-LAFの2番目の特徴は、自動欠陥ソート機能です。この装置は、マスクまたはウェーハ上のサイズと位置に基づいて欠陥を迅速かつ正確にソートすることができます。これらの欠陥ソートパラメータには、x/y座標、面積サイズ、明るさ/強度、アスペクト比、および急激/崩壊率を含めることができます。これにより、オペレータはより詳細な検査を必要とする可能性のある領域を迅速に特定できるため、検査プロセス全体がはるかに迅速かつ効率的になります。全体として、POLYCHECK W-LAFは非常に高解像度のスキャンを印象的な速度で提供します。ライブイメージングと自動欠陥ソート機能により、マスクまたはウェーハの欠陥を迅速かつ正確に検出するための理想的なツールです。完成した製品に欠陥がないようにしながら、時間と労力を節約できる強力なシステムです。