中古 OSI Metra 2115M #293629181 を販売中
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OSI Metra 2115Mは、半導体の製造工程で使用されるように設計された高度なマスクおよびウェハ検査装置です。高度な自動画像認識技術を使用して、マスクやウェーハの表面を迅速かつ正確に検査し、製品の品質に影響を与える可能性のある欠陥や不規則性を検査します。その主なコンポーネントは、精度X/Yと傾きの動きを内蔵したスキャンステージ、真空ベースのビジョンシステム、および高解像度LCDイメージモニターが含まれています。このビジョンユニットは、デジタルカメラ、マイクロレンズ、波長に敏感なセンサーなど、さまざまな光学系を使用して、マスクやウェーハの表面の高解像度画像を迅速にキャプチャ、分析、表示します。記録されたデータは、粒子の汚染、クラッキングまたは反りなどの表面の微妙な不規則性、または欠陥またはサブスタンダードの半導体コンポーネントにつながる可能性のあるその他の不規則性を検出するために使用されます。Metra 2115Mには、プログラミングとプロセス制御のためのユーザーフレンドリーなインターフェースも含まれています。このマシンは、非均一なステップの追跡、波形の制御、X/Yと傾きの動きの制御などの複雑なタスクを実行することができます。プログラマブルロジックコントローラを使用すると、検査およびデータ分析プロセスのパラメータをカスタマイズできます。さらに、OSI Metra 2115Mは、大量のデータを迅速かつ一貫した分析を可能にする専用の大判定統計解析ソフトウェアを備えています。このソフトウェアは、多くのウェーハまたはマスク面でビジョンツールによって収集されたデータを比較して、外側または異常をすばやく識別できます。最後に、Metra 2115Mは他のプロセスや機器に簡単に統合できるように設計されています。そのネットワークインターフェイスは、レーザースキャナーや自動選別システムなどの他のマシンとの接続を難なく可能にします。これにより、半導体の製造プロセスを合理化するために必要に応じて他のプロセスに組み込むことができます。
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