中古 OLYMPUS KIF-202 #9394252 を販売中

OLYMPUS KIF-202は、半導体製造業向けに特別に設計されたマスクおよびウェハ検査装置です。トランスポートマスクやフリースタンディングウェーハの欠陥や重要なパラメータを正確に検出できます。KIF-202には、膜厚、オーバーレイ精度、およびその他のウエハ特性を測定する機能など、複数の機能があります。OLYMPUS KIF-202は10nmの高精度の再現性の段階を特色にし、非常に小さい欠陥を検出するのに高出力レーザーを使用します。また、高解像度の5ミクロンCCDカメラを搭載しており、オーバーレイ精度のリソグラフィ測定用パターンマッチングが可能です。また、多種多様な用途に最適な画質を確保するために、交換レンズ、フィルター、照明器具のオプションを幅広く用意しています。KIF-202は、ユーザーフレンドリーなタッチパネルと自動化された手順で、迅速かつ簡単な操作のために設計されています。また、統計機能とデータアーカイブを内蔵した完全統合分析パッケージも備えています。OLYMPUS KIF-202は、業界最高の歩留まりとスループットレベルを確保するために、高速画像検査と歩留まり解析を備えています。KIF-202はまた非常に低いエネルギー消費があり、緑の技術の解決の範囲を支えるので、環境に優しい単位です。機械の高度なオートメーション機能は、手作業によるソリューションの必要性を減らし、時間とコストを節約します。さらに、このツールは簡単なメンテナンスのために設計されており、稼働時間の増加とメンテナンスコストの削減を可能にします。OLYMPUS KIF-202は、半導体製造業者が厳しい公差と高い歩留まりを達成するのに役立つ高度なマスクおよびウェーハ検査資産です。モデルは信頼できる操作、長い寿命および容易な維持のために設計されています。堅牢な機能と低消費電力を備えたKIF-202は、マスクおよびウェーハ検査に最適なソリューションです。