中古 OLYMPUS KIF-10W #9395780 を販売中

OLYMPUS KIF-10Wは、高精度な画像キャプチャと解析を可能にする高度なマスク&ウエハ検査装置です。これは、実験室と産業の両方の設定に適した汎用性の高い検査システムです。このユニットは、フルブライトフィールドイメージングとデジタルイメージキャプチャを組み合わせることで、マスクおよびウェーハ機能を迅速かつ正確に分析および測定するように設計されています。このマシンは、高出力のコーラー照明ツールと、高精度で高速なイメージング機能を提供する4メガピクセルのセンサーを備えています。KIF-10Wアセットは、線幅、重要寸法、表面形状などのマスクまたはウェーハの特徴を正確に測定するように設計されています。最大64メガピクセルの画像をキャプチャすることができ、高い精度で最も微妙な欠陥を検出することができます。高電力モデルは、広い視野と高解像度の画像で複数のサンプルサイズを処理するために十分に装備されています。また、高速パターンプロジェクターとダイナミックな画像強化を備えており、複雑なサンプルに優れた画質を提供します。OLYMPUS KIF-10Wは直感的なソフトウェアインターフェイスを備えており、ユーザーはすべての画像キャプチャおよび分析設定に素早く簡単にアクセスして制御できます。ウェーハ解析には、3Dマッピング、エッジ検出、薄い金属ラインプロファイリング、およびエッジ偏差測定などの包括的なイメージングおよび分析ツールが用意されています。また、ユーザーは特定の領域に集中し、手動でズームとパンニングを実行することができます。さらに、KIF-10Wには欠陥学習アルゴリズムの組み込みライブラリによる欠陥の自動検索が含まれています。これにより、最も複雑な欠陥を検出して記録することができるデジタルイメージングフィルタを使用して、欠陥をすばやく分類および特徴付けることができます。さらに、リアルタイムレポート生成機能を備えた自動欠陥分類機能により、サンプルの状態をすばやく簡単に把握できます。全体として、OLYMPUS KIF-10Wは、チップおよび回路の迅速で正確で信頼性の高い検査および分析を目的に設計された、高度で高性能なマスクおよびウェハ検査ユニットです。直感的なコントロールと高解像度のイメージング機能により、ラボと産業用の両方の設定に最適です。