中古 NIKON Optistation II #9307809 を販売中

NIKON Optistation IIは、リソグラフィ製造用に設計されたマスクおよびウェーハ検査装置です。最先端の照明およびイメージング技術により、マイクロエレクトロニクス業界のアプリケーションにおいて非常に低ノイズレベルで信頼性の高い高精度の測定を可能にします。このシステムは、画像用途の光源として機能するブライトフィールド透過照明モジュールを備えています。それは明確なイメージ投射および検出器とパターン間の干渉から自由な信号のための優秀な対照を提供します。その堅牢で安定した構造は、200 µm以上の幅広い分野で均一に保つように設計されています。検査ユニットには使いやすいmaXeleratorステージもあり、迅速で滑らかな動きと正確で再現性のある位置決めを提供します。途中の中間点を正確に計算しながら、1つの動きでフルウェーハなどの広い領域をスキャンすることができます。Optistation IIは、正確かつ再現可能な欠陥検出のための高度な定量的画像解析機能を提供します。正確な測定と診断のために、線幅、エッジ位置、線粗さ、欠陥サイズなど、さまざまなパラメータを認識できます。このマシンは、ワンショット露出、クイックビューアライメント技術に基づいており、ユーザーはウェーハ上の防御パターンを迅速に識別、整列、および測定することができます。ソフトウェアコントロールの下でシームレスに高速スキャンを組み合わせ、スループットと精度を最適化する統合測定技術を搭載しています。全体的に、NIKON Optistation IIは、パターンイメージを高精度で効率的に検査できる強力で信頼性の高いマスクおよびウェーハ検査ツールを提供します。また、ソフトウェア制御下でウェーハ上の防御パターンをすばやく検索し、正確に測定することができます。堅牢な設計と高度なイメージング技術により、リソグラフィ製造に最適なソリューションです。