中古 NIKON Optistation 3A #9147680 を販売中

NIKON Optistation 3Aは、プロセス制御の向上と生産コストの削減を支援するために設計された高度なマスクおよびウェーハ検査装置です。高度なCCDイメージング技術を採用し、サブミクロンレベルでマスクやウェーハパターンを検査する、高精度な光学検査システムです。NIKON OPTISTATION 3 0。25 µm以下の不規則パターンや多角形パターンなど、さまざまな半導体デバイスのパターンを迅速かつ正確に検査できます。Optistation 3Aは、CCDイメージングステージとRGBイメージングステージの2段階からなるデュアルステージ高精度イメージングユニットを採用しています。CCDイメージングステージは、パターンエッジ、形状、ライン幅をサブミクロン精度で測定します。また、実際のチップパターンとマスクパターンの間のオーバーレイからの欠陥検出も可能です。RGBイメージングステージは、実際のチップパターンとマスクパターンとの間のネイティブ酸化物などの色の不一致を検出するために使用されます。OPTISTATION 3 Aのソフトウェアは、直感的でインタラクティブなユーザーインターフェイスを備えており、マシンのさまざまな設定や機能を簡単に設定および制御できます。パターン認識ツールとマスク解析ツールを内蔵することで、ウエハパターンの欠陥を迅速に検出できます。このソフトウェアには、包括的なマスクパターンとオーバーレイ測定、迅速な欠陥識別、およびさまざまなデバイス/マスクパターン比較機能も含まれています。NIKON Optistation 3Aは、高度なパターン検出アルゴリズム、高精度のキャリブレーションとアライメントシステム、複数の画像補正機能、強力な画像認識エンジンなど、最高品質の検査結果を保証するためのさまざまな高度な機能を備えています。このツールは、さまざまなアプリケーション要件に合わせて、さまざまなイメージング構成も提供します。このアセットは、半導体産業におけるマスクやウェーハの検査に信頼性の高い費用対効果の高いソリューションを提供します。信頼性が高く正確な検査結果、処理速度の高速化、プロセス制御の向上を実現します。NIKON OPTISTATION 3 Aは、半導体デバイスの製造における生産性と効率を向上させるための理想的なソリューションです。