中古 NIKON Optistation 3 #62571 を販売中

NIKON Optistation 3は、ハイスループットおよび高分解能半導体パターン検査および計測用に設計された統合マスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムは、自動臨界寸法（CD）測定、光学欠陥レビュー（ODR）、オーバーレイ測定などの製造および研究アプリケーションに使用されます。NIKON OPTISTATION-3の高度な光学系は、全波長で1 Angstrom/µm未満の被写界深度と2％以下の直線性を持つ高解像度画像を提供します。このユニットは、優れたパターンと欠陥レビューを正確な判断で容易にする見事なハイコントラスト画像を生成します。ODRアプリケーションを使用すると、オペレータは非常に高い精度でマッチエラーやパターン欠陥のウェーハをチェックできます。また、ダークフィールドの光学反転画像を提供し、パターン欠陥とランダムな粒子欠陥を区別するのに役立ちます。このマシンは、デュアルステージ自動ステージハンドリングツールを使用して、パターンを長距離ターゲットと特定の場所に相対的に正確で反復可能で高速な位置決めを行います。このアセットには自動ウェーハセンタリングモードも組み込まれており、検査や計測のためにウェーハを素早く簡単にセンタリングできます。統合されたコントローラは、高度にカスタマイズされた直感的なユーザーインターフェイスを使用しているため、検査および計測タスクを迅速に設定できます。コントローラには高度なデバッグ機能とモデルロギング機能があり、ユーザーはエラーを迅速かつ効率的にトラブルシューティングできます。この装置は、他のベンダーのインラインツールと統合することができ、高速で効率的でシームレスな結果を得ることができます。24時間年中無休のサポートにより、顧客満足度と高品質の結果が保証されます。Optistation 3は、製造環境における半導体パターン検査および計測に不可欠なツールです。信頼性の高い光学系、自動ウェーハセンタリング、デュアルステージなどの高度な機能により、あらゆる半導体プロセスラインに必須のシステムとなっています。OPTISTATION-3により、半導体エンジニアは、アプリケーションが何であっても最高の結果を得ることができます。