中古 NIKON Optistation 3 #293594406 を販売中
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タップしてズーム
NIKON Optistation 3は、半導体製造におけるレジスト、スパッタフィルム、リソグラフィープロセス、ウェーハの効率的かつ信頼性の高い検査を提供するために設計された包括的なマスクおよびウェーハ検査装置です。インラインとオフラインの両方の構成をサポートするモジュラー設計と、幅広いマスクとウェーハタイプを備えています。NIKON OPTISTATION-3システムの中核は、高度な光学ヘッドと4つのイメージングレベルを備えたハイパワー光学ユニットです。光学はニコンの先進的な広帯域マルチセグメントLED照明と最大5倍の光学ズームを利用しています。最大16 「x 20」のマスクまたはウエハー視野を検査でき、1回の露出で0。2 μ mまでの特徴を検出できます。また、高速な画像処理や解析、自動化されたプロセス制御などの高度なソフトウェア技術を備えており、より迅速かつ正確な検査を可能にします。その高速画像キャプチャと3D空間画像相関（SIC）技術は誤検出を排除し、パターンマッチング技術（PMT）は反復可能な結果を保証します。Optistation 3には、実験室とインライン検査の両方のニーズをサポートする一連のレビューおよびロギングツールも含まれています。複数のマスクイメージ、および複数のウェーハレイヤー間の比較データ相関を提供できます。また、検査結果の迅速な検索と保存を可能にする統合データベースも備えています。機械はSEMI仕様に準拠しており、ターンアラウンドタイムを改善し、コストを削減するように設計されています。その広範な互換性により、GDSIIファイルストリーミングや設計レイアウト比較など、他のファクトリーオートメーションプロセスとの統合が可能になります。最後に、直感的なユーザーインターフェイスと包括的なドキュメントにより、OPTISTATION-3を使いやすく操作できます。要するに、NIKON Optistation 3は、優れた精度と再現性を提供する強力で柔軟かつ信頼性の高いマスクおよびウェーハ検査ツールです。高出力の光学資産、高度なソフトウェア技術、一連のレビューおよびロギングツールにより、複数の半導体製造要件に対応できます。さらに、SEMI仕様への準拠、幅広い互換性、ユーザーフレンドリーなインターフェースにより、さまざまなマスクおよびウェーハ検査ニーズに適したソリューションとなっています。
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