中古 NANOMETRICS Vertex #293819732 を販売中

NANOMETRICS Vertexは、さまざまな基板上で高速で正確で信頼性の高い検査結果を提供するように設計されたマスクおよびウェハ検査装置です。高度な光学系、画像処理アルゴリズム、高解像度カメラを組み合わせ、ナノメートルの精度で欠陥を検出します。ユニットは、マスクとウェーハ上の特徴を測定、画像、および分析するように設計されています。欠陥認識、コントラスト測定、オーバーレイ歪み測定が可能です。最小限の欠陥を特定するために、ナノメートルレベルまで分析することができます。このマシンは直感的なユーザーインターフェイスを備えており、プロセスオプション、ウェハサイズ、欠陥サイズなどの検査パラメータを設定および制御できます。さらに、このツールは、画像処理用のカスタムスクリプトを提供しています。これは、ユーザーが欠陥検出と分析のためのカスタムスクリプトを書くことができる機能です。強力な光学アセットは、ウェーハやマスクの特徴や欠陥を高解像度で画像化します。高解像度イメージングモデルにより、欠陥やパターンの歪みを迅速かつ確実に検出できます。さらに、幅広い解像度から選択できるため、あらゆる種類のウェーハおよびマスク検査に適しています。頂点は、柔軟性と欠陥検出の速度を提供する構成オプションの広い範囲を提供しています。電動ステージ、オートフォーカス、高精度レンズなど、さまざまなアクセサリーで構成することができ、各アプリケーションのニーズに対応できます。この機器には、自動欠陥の識別と分析のための高度なソフトウェアツールも含まれています。全体として、NANOMETRICS Vertexは、検査精度、速度、および信頼性のための幅広い機能とオプションを提供する高度なマスクおよびウェーハ検査システムです。あらゆるアプリケーションに適しており、欠陥や歪みを迅速に特定して分析できるため、欠陥が少なくなり、デバイスの歩留まりが向上します。単位の柔軟性はそれをあらゆるマスクおよびウェーハの点検条件のための理想的な選択にします。