中古 NANOMETRICS Sipher #9392621 を販売中
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NANOMETRICS Sipherは、ナノメトリクス社が半導体製造プロセスで使用するために開発した先進的なマスクおよびウェハ検査装置です。マスクやウェーハの検査、インライン欠陥レビュー、3D計測技術を活用した多機能ツールです。Sipherシステムのユニークな特徴は、パターン化されたマスクの前面と背面の両方を見ることができ、他のタイプの検査システムには見えない欠陥を検出することができます。NANOMETRICS Sipherユニットは、マスクやウェーハに光を当て、反射した画像をキャプチャして動作します。次に、パターニング、線幅、ピッチなどの特徴と欠陥の画像を分析します。その後、自動レビュープロセスを使用して潜在的な欠陥を強調して特徴付けることで、エンジニアは問題を迅速に検証または特定することができます。これらの画像は、ウェーハまたはマスク上のフィーチャーの寸法を測定するための計測データを生成するためにも使用できます。サイファーツールは、半導体製造において幅広い用途に対応し、汎用性の高い設計となっています。また、NANOMETRICS Sipherアセットの高度なイメージング技術により、マスクやウェーハの検査にかかる時間を短縮し、超高速での作業が可能となります。全体として、Sipherは、欠陥レビュー、計測、高速サイクルタイムなどの豊富な機能をエンジニアに提供する高度なマスクおよびウェーハ検査モデルです。その優れた能力により、半導体業界において貴重な資産となることは間違いありません。
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