中古 NANOMETRICS NanoSpec VT 210 #293700335 を販売中

ナノメトリクスNanoSpec VT 210は、半導体業界向けに設計された高解像度マスクおよびウェーハ検査装置です。クリティカルマスクやウェーハの半自動・高精度検査が可能で、迅速な欠陥検出、識別、補正が可能です。このシステムは、高度な半導体製造、故障解析、および設計の卓越性のアプリケーションに最適です。13。5インチのモニターと250mmの上段移動領域を備え、EUV （Extreme Ultraviolet）からVuum Utraviolet （VUV）スペクトル範囲の光学特性の高解像度画像を提供します。VT 210には、20nmと小型の特長のイメージングを可能にする先進的なUV光学系や、低線量X線顕微鏡などの特殊光学系が搭載されており、最大10nmの特長サイズのイメージング機能を提供します。マシンは繰り返しスキャンでプログラムすることができ、ユーザーはスキャンが完了するのを待つことなく、リアルタイムで欠陥を対話的に分析することができます。ultracompact VT 210にはカメラとオープンアーキテクチャプラットフォームが内蔵されており、事前に選択されたパラメータのライブラリがあり、高度なプログラミングとツールのカスタマイズが可能です。問題の診断、プロセスの変更の評価、設計の最適化に使用できます。さらに、ユーザーは、特定のアプリケーションの検査パラメータをカスタマイズすることができ、追加の露出なしでサンプルを検査することができます。VT 210は、マスクとウェーハアプリケーションの両方において、欠陥の自動識別、分類、優先順位付けを提供します。また、欠陥画像をキャプチャして保存することもできます=迅速な欠陥解析と特性評価を可能にします。高精度を確保するために、ユーザーは複数の任意のスキャンウィンドウを選択することができ、資産はクリーン、修復可能、汚染された/デラミネートされた欠陥を区別することさえできます。全体として、NanoSpec VT 210は、半導体の製造、故障解析、および設計の卓越性を促進するように設計された高度なウェーハおよびマスク検査モデルです。VT 210は、高度なUV光学、低線量X線顕微鏡、および相互欠陥解析機能に加えて、自動欠陥切除、欠陥分類、欠陥優先順位付けも提供します。要するに、VT 210は詳細な光学検査を提供し、迅速かつ正確な欠陥の識別と解像度を可能にします。