中古 NANOMETRICS NanoSpec II #293766066 を販売中

NANOMETRICS NanoSpec IIは、高度なマスクおよびウェーハ分析用のハイエンドマスクおよびウェーハ検査装置です。マスクとウエハサンプルの両方の高解像度イメージングを提供し、正確な目視検査、高解像度測定、および低レベルの欠陥分類を可能にします。NanoSpec IIは、グレースケールイメージングと呼ばれる最先端の光学イメージング技術を特長としています。このタイプのイメージングは、マスクやウェーハ上の最小の機能でも視覚化でき、サンプルの詳細な検査が可能です。グレースケールイメージングは、数ナノメートルまで詳細を解決することもでき、精密測定に最適です。ナノメトリクスNanoSpec IIは、高度な定量分析機能も備えています。数ナノメートルの精度で構造内のサイズや特徴を測定することができ、高い精度で重要な寸法欠陥を計算することもできます。これにより、マスクやウェーハレイアウト設計、プロセス制御ウェーハなど、幅広いマスクやウェーハサンプルの検査に最適なシステムとなります。このユニットは、強力な自動欠陥検出および分類機能も提供します。確立された公差レベル以外の欠陥を自動的に識別、分類、破棄できます。この機能は、誤った正または不要な欠陥を排除し、生産関連の問題を迅速に検出および報告するために使用できます。さらに、NanoSpec IIには、マスクとウェーハレイヤーの両方でデータを分析および処理するためのユーザーフレンドリーなソフトウェアも含まれています。このソフトウェアは、マシンを多目的かつ使いやすくし、サンプルの正確かつ詳細な評価を可能にします。全体として、NANOMETRICS NanoSpec IIは、高度なマスクおよびウェーハ分析のための高解像度イメージングと強力な解析機能を提供する汎用性の高いマスクおよびウェーハ検査ツールです。そのハイエンド光学イメージング技術とユーザーフレンドリーなソフトウェアは、幅広いアプリケーションに最適です。