中古 NANOMETRICS NanoSpec II #293766064 を販売中

NANOMETRICS NanoSpec IIは、NANOMETRICSが開発したマスクおよびウエハ検査装置で、欠陥を0.1µmに小さく正確に検出します。NanoSpec IIは、複雑な半導体ワークフローに簡単に統合することで、市場で入手可能な最高品質のイメージングを提供するように設計されています。最大128倍の高解像度イメージングを実現し、最適な欠陥解析が可能です。経路分割機能により、複数のセンサーを使用して単一のダイを検査し、検査時間を短縮し、全体的なスループットを向上させます。さらに、独自のASMI （Adaptive Sub-Pixel Motion Interpolation）技術により、サンプルの変形を補正し、常に正確な欠陥識別を保証します。さらに、NANOMETRICS NanoSpec IIは、重大なオーバーレイ欠陥解析のための真のオーバーレイを備えた広い視野と完全なドメイン測定を提供します。このユニットは、ダークフィールド、ブライトフィールド、偏光など、最大の画像を模倣するための利用可能なすべての光データを取得します。NanoSpec IIには、潜在的な欠陥サイトを効率的にソートするための自動欠陥分類アルゴリズムのフルスイートも装備されています。偽陽性の欠陥サイトが少ないため、検査のためにグリフイメージを手動で確認する必要がなくなります。さらに、色強化技術は欠陥画像を真の色にレンダリングし、分類精度を高めます。NANOMETRICSキャリブレーションプラットフォームに統合されたこの特許出願中のマシンは、テストコストを削減するためにさまざまなフィールドサイズにわたって簡単なインストールと優れた画像均一性を提供します。使いやすいソフトウェアプラットフォームは、ツール構成を簡素化し、ツールとサンプルの自動検査、画像キャプチャ、欠陥のレビューを提供し、マスクとウェハ検査プロセス全体の効率を向上させます。ナノメトリクスNanoSpec IIは、ウェーハの欠陥感度の向上、高い生産性、直感的で使いやすい検査資産を必要とするメーカーにとって理想的なソリューションです。その高精度イメージング機能は、ワークフローの速度と精度を向上させたいメーカーに最適です。