中古 NANOMETRICS NanoSpec AFT 6100 #9276360 を販売中

ナノメトリクスNanoSpec AFT 6100は、1ナノメートル程度の製造欠陥を検出し、最適な製品歩留まりを確保するために設計された精密マスクおよびウェーハ検査装置です。不整列、プロセスカバレッジの欠如、エッチングプロセスの欠陥、ウエハークラック、機能のずれ、その他の異常など、事実上あらゆるパターンの問題を検出できます。NanoSpec AFT 6100は、マスクやウェーハパターンの超高解像度イメージと欠陥マップを撮影します。これはナノメートルレベルの特徴を分析するために使用され、欠陥パターン、位置、サイズに関する詳細な洞察を提供します。また、フォトマスク機能の精度、配置とアライメントの精度、パターンの完全性を測定するのにも役立ちます。AFT 6100は、最大50メガピクセルの解像度を持つ高解像度カメラと、非常に小さな欠陥の検出を可能にする特許取得済みのデジタル画像取得システムを備えています。ユニットのソフトウェアアーキテクチャには、強力な画像キャプチャおよび欠陥検出エンジン、柔軟なデータ分析および比較ツール、および広範なレポート機能が含まれます。このマシンは最大332Xまでズーム機能を備えており、ローカライズされた欠陥を表示するために高レベルの倍率を使用できます。ウェーハやマスクの平坦性と配置精度を高めるために使用される透明なチャッカーを装備しています。NANOMETRICS NanoSpec AFT 6100には、ウェーハテンプレートとフォトマスクをすばやく揃えることができる自動光学アライメントツールがあり、検査時間を短縮できます。NanoSpec AFT 6100は、高い精度と精度で、柔軟性と信頼性の高い検査資産を提供します。直感的なグラフィカルユーザーインターフェイスにより、欠陥情報をすばやく見つけて理解することもできます。このモデルは、シングルダイから機器レベルまで、さまざまなレベルで生産、認定、プロセス開発作業に使用できます。AFT 6100は使いやすく、特定のニーズに合わせてカスタマイズするためのさまざまなオプションを提供します。パターニングと検査能力において極めて精度と細部を必要とする、あらゆるウエハ製造プロセスに不可欠なツールです。