中古 NANOMETRICS NanoSpec AFT 5100 #9266970 を販売中

ナノメトリクスNanoSpec AFT 5100マスク&ウェーハ検査装置は、半導体製造のために設計された自動化された高分解能測定ツールです。NanoSpec AFT 5100は、定性的かつ定量的な機能を備えたパターンを正確かつ信頼性の高い検査するための汎用パターン認識システムです。また、高度な顕微鏡光学モジュールで構成されており、50nm以下の最高解像度で複数のパターンZの高さと表面パラメータを正確に測定できます。単位の自動化された測定機能は容易な組み立ておよび簡単な操作の高速および高精度なパターン点検を可能にします。このマシンは、明るいフィールド、暗いフィールド、偏光照明などの幅広いイメージング技術を提供しており、さまざまな清潔なアプリケーションで強化されたイメージング機能を実現します。様々な構造インターフェースに最適化されたマクロ/マイクロ構造照明モジュールを内蔵しているため、画質の向上と細部分析が可能です。さらに、このツールは、エッジの詳細をインテリジェントに検出してマスクする独自のアルゴリズムを備えており、傷、破損、線幅の正確な定量化を容易にします。このアセットにより、欠陥のサイズや位置を正確に測定することができ、自動欠陥修復技術である高度なマスク修理が可能になります。マルチカラーのオーバーレイ補正を提供し、様々な色の画像のコントラストの均一性、および3D光学断面化を保証します。NANOSpec AFT 5100には、直感的で使いやすいソフトウェアが付属しており、ユーザーが簡単にモデルを制御し、リアルタイムでテスト結果を観察し、測定パラメータを選択、設定、最適化し、データをエクスポートできます。また、計測データを格納するためのデータベースを内蔵しており、後で使用するために簡単にアクセスできます。要約すると、NanoSpec AFT 5100 Mask&Wafer Inspection Systemは、半導体製造のための効率的な計測ツールであり、マスクとウェーハを簡単かつ正確に検査するためのユニークな機能を提供します。様々なイメージング技術、マルチカラーオーバーレイ補正、高度なマスク補修機能を提供し、測定精度を向上させています。また、直感的なユーザーフレンドリーなグラフィカルユーザーインターフェイスを備えているため、操作が簡単で、高精度の計測結果が得られます。