中古 NANOMETRICS NanoSpec AFT 210UV #9160099 を販売中

ナノメトリクスNanoSpec AFT 210UVは、最高レベルの検査精度を目指して設計された最先端のマスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムは、高度な光学技術とデジタルイメージング技術とコンピュータ制御スキャンユニットを組み合わせ、最高レベルの検査精度を提供します。AFT 210UVは、50ナノメートル以下の解像度での画像解析、欠陥解析、欠陥サイジングおよび欠陥マッピングを提供します。このマシンには、2つのリニアスキャンステージ、1つのガルバノメートルスキャンステージ、1つの控えめなスキャンステージがあり、幅広いスキャンパラメータと解像度を生成します。控えめなスキャンステージには、最大10nmの解像度と~ 10mm2の視野があります。3つのステージはすべて12メガピクセルのカメラと組み合わされており、非常に高速で正確な画像を取得することができます。さらに、このツールには、16ビットのデジタル信号プロセッサ（DSP）、フィールドプログラマブルゲートアレイ（FPGA）、および画像キャプチャ、欠陥スポッティング、並列解析を実行するマイクロコントローラが含まれています。AFT 210UVの光学エンジンは、最も要求の厳しい検査アプリケーションのために高効率と高分解能を提供するように設計されています。高度な光学系では、カラー、ゲイン、フォーカス、ライブビュー、偏光などのイメージング機能も可能です。AFT 210UVには、自動検査を可能にする高度なソフトウェアとアルゴリズムが装備されています。その高度な分析および画像処理アルゴリズムは、ウェーハやマスクの小さな欠陥を検出するために使用できます。また、ウェーハまたはマスク上の欠陥を正確に識別、分類、カウント、サイズ、マップするための高度な欠陥解析アルゴリズムも備えています。全体として、NanoSpec AFT 210UVは強力で信頼性の高いマスク&ウェーハ検査ツールです。精密光学、超高速イメージング、高解像度、高度なイメージングアルゴリズムを独自に組み合わせ、最高レベルの検査精度を提供します。このモデルは、高度なウェーハおよびマスク製造プロセスに取り組む際の重要な意思決定に最適です。