中古 NANOMETRICS NanoSpec AFT 2100 #9100828 を販売中

NANOMETRICS NanoSpec AFT 2100は、さまざまな半導体ウェハタイプの優れたイメージングを提供する強力なマスクおよびウェハ検査システムです。マルチパターニング、高度なリソグラフィ、EUVベースのアプリケーションなど、最も要求の厳しい半導体プロセス技術の要件を満たすように設計されています。NanoSpec AFT 2100は、これまでにない解像度とイメージングの忠実度を提供し、業界標準のテストと検査を正確かつ効率的に実行できます。デュアルビームオプティカルカラムを搭載し、ウェーハ上下の同時画像を実現し、同時欠陥検査が可能です。また、低コントラスト欠陥に対する優れた感度を提供し、サブサイズ20nmの欠陥の検出を可能にする特殊な光学系を特長としています。ナノメトリクスNanoSpec AFT 2100は、8「、12」、16「ウェーハなどの標準ウェーハタイプの取得および画像処理、および直径21」までの特殊計測ウェーハの操作が可能です。高速スピニングステージ、オートフォーカス機能、立体イメージプロファイリングなど多数の機能を搭載し、画質と精度を向上させています。NanoSpec AFT 2100には、定期検査を自動化し、誤報率を低減する高度な欠陥解析ソフトウェアスイートも装備されています。内蔵の欠陥分類アルゴリズムは、0から5までの欠陥の分析と分類を可能にします。また、自動解析オプションを使用して、汚染、パターン欠陥、およびFIB損傷などの特定の欠陥フィーチャーを迅速に特定および分離できます。NANOMETRICS NanoSpec AFT 2021の高度なイメージング機能により、半導体マスクやウェハ検査に最適です。優れた解像度とイメージングの忠実度、および自動欠陥解析と分類を提供します。また、高速ステージ回転、オートフォーカス機能、立体イメージプロファイリングなどの高度な機能を備えており、優れた画質と精度を確保しています。