中古 NANOMETRICS NanoSpec AFT 2100 #293754157 を販売中

ナノメトリクスNanoSpec AFT 2100は、製造プロセス全体を効率化しながら、イメージング精度と歩留まりを向上させるために設計された高度なマスクおよびウェハ検査装置です。高速画像取得装置、高解像度カラーカメラ、高出力レーザーなど、最先端の技術を搭載しています。マスクやウエハーの高品質な画像を取得するために設計されており、幅広い加工パラメータを備えており、最高レベルの精度と信頼性を提供します。このツールは、暗いフィールドと明るいフィールド画像の組み合わせを利用して、低コントラストのアプリケーションでも画像を高速に取得することができます。カメラはCCDセンサーを使用しており、最大5 µmの解像度での画像取得が可能です。また、高度な高速信号コントローラを備えており、レーザー強度レベルを正確に制御できます。NanoSpec AFT 2100で使用されるレーザーは400 mWの高出力レーザーで、あらゆるマスクおよびウェーハ検査モデルの最高照明レベルを提供することができます。NANOMETRICS NanoSpec AFT 2100には、オーバーレイエラーを最小限に抑えるための高精度アライメント技術、高度な3D再構築、高度なモデルベースの輪郭抽出など、幅広いイメージング技術が搭載されています。また、スペースエラーに対する耐性が高く、非常に複雑なレイアウト構造でも正確なイメージングが可能です。NanoSpec AFT 2100は、欠陥検査、オーバーレイ測定、計測、マスク修理など、さまざまなアプリケーションに適しています。さらに、システムをユーザーの生産ラインに統合し、既存の機器で自動化することで、運用を合理化し、スループットを向上させることができます。全体として、NANOMETRICS NanoSpec AFT 2100は、高度で信頼性の高いマスクおよびウェーハ検査ユニットです。高精度のイメージングと高度な解析技術を提供し、最高レベルの精度と信頼性を保証します。さまざまな生産プロセスに適しており、既存の生産ラインに簡単に組み込むことができ、ユーザーは全体的なスループットと歩留まりを向上させることができます。