中古 NANOMETRICS NanoSpec AFT 210 #9284966 を販売中

ナノメトリクスNanoSpec AFT 210は、半導体業界向けに設計されたマスクおよびウェハ検査装置です。ウエハレベルの欠陥の完全なカバレッジと分析を提供する自動化されたシステムです。ナノメートル（nm）レベルまでの幅広いサイズの粒子を検出し、測定することができます。NanoSpecは高速イメージング機能を備えており、ウェハレベルで粒子や欠陥を迅速に解析できます。このユニットは、自動マスク検査モジュール、ウェハ検査モジュール、高速イメージングマシンで構成されています。自動化されたマスク検査モジュールには、マスクエッジの周りを正確にスキャンして欠陥や粒子をリアルタイムで検出するレーザースキャナーが装備されています。これは、異なるサイズや種類の粒子を検出して測定することができる分光イメージング技術と組み合わされています。ウェーハ検査モジュールは、ウェーハレベルの欠陥を検出するために使用されます。それは異なった特性の異なったサイズ、形および材料の粒子を検出できます。また、粒子や欠陥の正確で詳細な画像を提供する高解像度イメージングツールを備えています。また、高速イメージング（HSI）モジュールを搭載しており、粒子画像を最大1,000フレーム/秒の速度でキャプチャおよび分析することができます。これは、粒子や欠陥の高解像度画像を提供し、その後、潜在的な是正措置のために分析されます。NanoSpecには、検出された粒子と欠陥を分析し、包括的なレポートを生成するためのデータ分析スイートも付属しています。このスイートには、統計検査と目視検査の両方のレポートと、さらなる検査と分析を可能にする詳細な画像が含まれています。さらに、NanoSpecには直感的なユーザーインターフェイスがあり、エンジニアはその多くの機能とオプションに簡単にアクセスして設定することができます。さらに、必要に応じて新しい機能や機能を簡単に更新できるスケーラブルなモデルです。NANOMETRICS NANOSPEC/AFT 210は、半導体製造設備の完全なカバーを提供する高度なマスクおよびウェハ検査装置です。NanoSpec AFT 210は、高速イメージング機能、幅広い粒子サイズの検出、直感的なユーザーインターフェースを備えており、半導体マスクやウェーハ検査に最適です。