中古 NANOMETRICS NanoSpec AFT 210 #9197546 を販売中

ナノメトリクスNanoSpec AFT 210は、高度で効率的なマスクおよびウェーハ検査装置です。フィルム、パターン化されたマスク、フォトリソグラフィーウエハの欠陥を識別および管理するために設計された半自動システムです。AFT 210は、高度な画像処理および解析アルゴリズムを使用して、マスクとウェーハの両方で重要な検査可能機能の異常や欠陥を検出します。線幅、重要寸法、欠陥基準、フィーチャー構成などの特徴を詳細に調べることができます。このユニットには、CCDカメラ、明るく対照的な光、および正確で信頼性の高い結果を可能にする独自のイメージングソフトウェアが装備されています。マシンは、必要に応じて、さまざまな検査を実行するように設計されています。自動化された特徴および欠陥の点検、目視検査、マスクの端の対称性および分析、および顔の平坦の測定はすべて支えられます。検査結果はユーザーフレンドリーなレポート形式で自動的に作成されるため、お客様は独自の品質管理基準に従って結果を簡単にレビューおよび定量化できます。検査プロセスの自動化に加えて、AFT 210は、結果の分析に役立つ強力な抽出ツールも提供します。これには、フォトモンタージュ比較、ウェハパターン機能評価、およびデータ分析ツールが含まれます。X-Yプロット、パラメトリック分析、統計要約などのツールは、検査対象の機能に関する詳細な情報を提供するため、ユーザーは機器の性能に関する教育を受けた意思決定を行い、適切な是正アクションプランを確立することができます。このツールは、お客様固有のニーズに適応する拡張性を誇っています。高度なオートメーションと資産相互接続性は、さまざまな要件に合わせて調整することができます。AFT 210モデルは、主要なCMOSbや最先端技術を含むさまざまなフィルム、マスク、フォトリソグラフィーウェハに対応できます。また、自動化された接続サポートが装備されているため、他の周辺システムとの相互運用性が向上します。最後に、AFT 210は厳格な業界認証と国際規格への準拠を特徴とし、最適な機能性と性能を確保しています。堅牢な構造と高度な技術により、大量生産の製造ラインや研究開発ラボに最適です。